Mécanismes d'éjection de particules par laser impulsionnel

L'enlevement de particules de dimensions nanometriques est l'un des principaux challenges a relever pour atteindre les futurs objectifs de l'industrie microelectronique. Les procedes laser presentent, dans certains cas, des performances tres interessantes, mais les mecanismes d'ejection des particules polluant la surface restent cependant fort mal connus. L'etude de la dynamique d'ejection des particules, par une technique optique, a mis en evidence l'existence de deux mecanismes dont l'importance relative depend de la fluence d'irradiation. A forte fluence l'ablation locale du substrat sous la particule predomine, alors que pour les fluences plus faibles le mecanisme semble etre lie a l'enlevement de l'humidite residuelle a l'interface particule - substrat. Contrairement aux modeles precedemment proposes, la contribution de la force d'inertie s'exercant sur la particule lors de l'expansion thermique rapide des materiaux est negligeable.