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摘要
本文对不同直径(10、15和25 μm)的Pt超微电极(UMEs)上铜的电沉积过程进行了电化学研究;以1mm CuSO4和0.1 M (NH4)2SO4水溶液为支撑电解质。伏安法研究发现,还原过程在-0.4 V开始,氧化过程在0.5 V开始。为了确定铜电沉积的成核和生长机理,对时间安培研究获得的瞬态进行了动力学分析。通过对Barin等人提出的数学模型的非线性拟合,应用于实验恒电位瞬态,发现该过程受扩散控制。
Estudio electroquímico de la electrodepositación de cobre sobre ultramicroelectrodos de Pt
En el presente trabajo se realizó un estudio electroquímico para analizar el proceso de electrodepositación de cobre sobre ultramicroelectrodos (UMEs) de Pt de diferentes diámetros (10, 15 y 25 μm); a partir de una solución acuosa de CuSO4 1 mM y (NH4)2SO4 0.1 M como electrolito soporte. A partir del estudio voltamperométrico se encontró que el proceso de reducción comienza en -0.4 V mientras que el de oxidación en 0.5 V. Para determinar el mecanismo de nucleación y crecimiento de los electrodepósitos de cobre, se realizó un análisis cinético a partir de los transitorios obtenidos a partir del estudio cronoamperométrico. Mediante ajustes no lineales del modelo matemático propuesto por Barin et al., aplicado a los transitorios potenciostáticos experimentales, se encontró que el proceso se encuentra controlado por la difusión.