原子层沉积法合成的Hf-Sc-O薄膜的生长特性和相组成

Д.Е. Петухова, Е. С. Викулова, И. В. Корольков, С.Я. Хмель, Михаил Сергеевич Лебедев
{"title":"原子层沉积法合成的Hf-Sc-O薄膜的生长特性和相组成","authors":"Д.Е. Петухова, Е. С. Викулова, И. В. Корольков, С.Я. Хмель, Михаил Сергеевич Лебедев","doi":"10.26902/jsc_id107605","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Пленки Hf‑Sc‑O синтезированы методом атомно-слоевого осаждения с использованием паров тетракис-диэтиламида гафния (Hf(N(C2H5)2)4, TDEAH), трис-метилциклопентадиенила скандия (Sc(C5H4CH3)3) и воды при 300 °C на подложках монокристаллического кремния (100) и массивах ориентированных микроканатов (МОМК) SiOх. Образцы исследованы комплексом физико-химических методов: одноволновая эллипсометрия, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, рентгеновская дифракция, просвечивающая и сканирующая электронная микроскопия. Определены значения константы роста (прирост толщины пленки за один реакционный цикл) для индивидуальных и смешанных оксидов, охарактеризованы образующиеся в пленках фазы, установлена взаимосвязь морфологии поверхности и химического состава, исследованы оптические свойства образцов. Использование МОМК в качестве подложек позволило достоверно идентифицировать образование упорядоченной δ-фазы Hf3Sc4O12 ромбоэдрического структурного типа пространственной группы R-3.","PeriodicalId":24042,"journal":{"name":"Журнал структурной химии","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Особенности роста и фазовый состав тонких плёнок Hf-Sc-O, синтезированных методом атомно-слоевого осаждения\",\"authors\":\"Д.Е. Петухова, Е. С. Викулова, И. В. Корольков, С.Я. Хмель, Михаил Сергеевич Лебедев\",\"doi\":\"10.26902/jsc_id107605\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Пленки Hf‑Sc‑O синтезированы методом атомно-слоевого осаждения с использованием паров тетракис-диэтиламида гафния (Hf(N(C2H5)2)4, TDEAH), трис-метилциклопентадиенила скандия (Sc(C5H4CH3)3) и воды при 300 °C на подложках монокристаллического кремния (100) и массивах ориентированных микроканатов (МОМК) SiOх. Образцы исследованы комплексом физико-химических методов: одноволновая эллипсометрия, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, рентгеновская дифракция, просвечивающая и сканирующая электронная микроскопия. Определены значения константы роста (прирост толщины пленки за один реакционный цикл) для индивидуальных и смешанных оксидов, охарактеризованы образующиеся в пленках фазы, установлена взаимосвязь морфологии поверхности и химического состава, исследованы оптические свойства образцов. Использование МОМК в качестве подложек позволило достоверно идентифицировать образование упорядоченной δ-фазы Hf3Sc4O12 ромбоэдрического структурного типа пространственной группы R-3.\",\"PeriodicalId\":24042,\"journal\":{\"name\":\"Журнал структурной химии\",\"volume\":null,\"pages\":null},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2023-01-01\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Журнал структурной химии\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.26902/jsc_id107605\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Журнал структурной химии","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.26902/jsc_id107605","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

胶卷Hf Sc boundary O原子合成方法-слоев使用几个тетракис二乙胺铪沉积(Hf (N (C2H5) 2) 4、TDEAH)、翠метилциклопентадиен钪(Sc(300°C下C5H4CH3) 3)和水硅衬底单晶(100名)和面向микроканат数组(МОМКSiOх)。物理化学方法的样本被综合分析:单波椭圆、x射线光谱学、x射线衍射、透视和扫描电子显微镜。在单个反应周期内,对单个和混合氧化物的生长常数(胶片厚度增加)的定义,在薄膜中形成的相,与表面形态学和化学成分相互联系,研究样品的光学特性。使用mk作为勺子,可以有效地识别出r3空间群结构类型的有序“h”阶段Hf3Sc4O12的形成。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Особенности роста и фазовый состав тонких плёнок Hf-Sc-O, синтезированных методом атомно-слоевого осаждения
Пленки Hf‑Sc‑O синтезированы методом атомно-слоевого осаждения с использованием паров тетракис-диэтиламида гафния (Hf(N(C2H5)2)4, TDEAH), трис-метилциклопентадиенила скандия (Sc(C5H4CH3)3) и воды при 300 °C на подложках монокристаллического кремния (100) и массивах ориентированных микроканатов (МОМК) SiOх. Образцы исследованы комплексом физико-химических методов: одноволновая эллипсометрия, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, рентгеновская дифракция, просвечивающая и сканирующая электронная микроскопия. Определены значения константы роста (прирост толщины пленки за один реакционный цикл) для индивидуальных и смешанных оксидов, охарактеризованы образующиеся в пленках фазы, установлена взаимосвязь морфологии поверхности и химического состава, исследованы оптические свойства образцов. Использование МОМК в качестве подложек позволило достоверно идентифицировать образование упорядоченной δ-фазы Hf3Sc4O12 ромбоэдрического структурного типа пространственной группы R-3.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信