掺Te的变形GaAs单晶位错的高分辨电镜研究

July 16 Pub Date : 1984-07-16 DOI:10.1002/PSSA.2210840110
S. K. Maksimov, M. Ziegler, I. Khodos, I. I. Snighiryova, M. Shikhsaidov
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摘要

在高分辨率电子显微镜下,利用三束暗场晶格图像,研究了碲掺杂到1019 cm−3左右,在500°C下变形的GaAs单晶的缺陷结构。对析出相形成的不同阶段以及解离60°位错、偶极子和层错四面体的图像进行了拍摄和分析。分析了含碲阶段降水阶段的顺序。直接点阵图像的周期性与晶体中高度变形区域的面间距离存在差异。Die defktstrucktur von tellurdotierten (bis 1019 cm−3)GaAs-Einkristallen, Die hei 500°C deformiert werden, wid im hochauflosenden Elektronenmikroskop mittels Dreistrahl-Dunkelfeld-Gitterabbildung in Richtung < 110 > untersucht。研究方向:1 .偶极子与stapelfehler4 - 1 .偶极子与stapelfehl4 - 1 .偶极子与stapelfehl4 - 1 .偶极子与stapelfehl4 - 1 .偶极子与stapelfehl4 - 1。在这种情况下,沉淀是一种普遍存在的现象。有两种情况,一种是在德国,一种是在德国,一种是在德国,一种是在德国,一种是在德国。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
High Resolution Electron Microscopic Investigations of Dislocations in Deformed GaAs Single Crystals Doped with Te
The defect structure of GaAs single crystals doped with tellurium to about 1019 cm−3 and deformed at 500 °C is investigated in the high-resolution electron microscope using three-beam dark-field lattice images along 〈110〉. The images of precipitates at different stages of their formation as well as of dissociated 60° dislocations, dipoles, and stacking fault tetrahedra are taken and analyzed. The succession of the precipitation stages in the tellurium-bearing phase is analyzed, too. There are discrepancies between the periodicity on direct lattice images and the interplanar distances in highly deformed regions in the crystal. Die Defektstruktur von tellurdotierten (bis 1019 cm−3) GaAs-Einkristallen, die hei 500 ° C deformiert werden, wird im hochauflosenden Elektronenmikroskop mittels Dreistrahl-Dunkelfeld-Gitterabbildung in Richtung 〈110〉 untersucht. Abbildunpen von Prazipitaten in verschiedenen Zustanden ihrer Bildung sowie dissoziierte 60 ° Versetzungen, Dipole und Stapelfehlertetraeder werden gewonnen und analysiert. Die Abfolge der Prazipitationszustande in der tellurlialtigen Phase wird ebenfalls untersucht. Es existieren Widerspriiche zwischen der Periodizitat der direkten Gitterabbildungen und den Zwischenebenensbstanden in hochdeformierten Bereichen des Kristalls.
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