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引用次数: 18
摘要
结果表明,在聚乙烯-铝接触处存在双电层。潜在对比扫描电子显微镜需要样品切割和小心处理显微镜的电子束。然而,所提出的方法允许研究电势分布在绝缘子破坏与金属的接触而不破坏复合材料。在进一步的研究中,可以通过避免蒸发碳层和扩展利用横向分辨率来测量样品电位作为轨迹的函数来提高信息质量。在这两种情况下,这都需要增大显微镜初级电压的可变性。聚乙烯-铝接触模的模态分析。[1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1]。在此基础上,本文提出了一种新的方法,即在分离介质中进行电势分析,并提出了一种新的方法,即在金属中进行电势分析。在weiterfuhrenden, Untersuchungen kanto die qualititder ausserge werden, indem mander kohleaufdampschicht vermeidet,和die侧向auflonsing der potential messagner,和verbessert verabilitder primary strahnung - unserung -显微。
Measurement of Electrical Potential Distribution in a Polymer near the Contact to a Metal by Means of Scanning Electron Microscopy
The results establish the existence of an electric double layer at a polyethylene-aluminum contact. The potential contrast scanning electron microscopy requires sample cutting and caution in handling the electron beam of the microscope. Nevertheless, the presented method allows to investigate the electrical potential distribution in insulators mar the contact to metals without rupture of the composite. In further investigations, the quality of information can be improved by avoiding the evaporated carbon layer and extending the exploitation of lateral resolution for measuring the sample potential as a function of locus. In both cases, that demands enlarged variability of primary voltage of the microscope.
Die vorgestellten Resultate beweisen die Existenz einer elektrischen Doppelschicht an einem Polyethylen-Aluminium Kontakt. Die dazu benutzte Potentialkontrast-Rasterelektronenmikroskopie verlangt das Sehneiden der Proben und Vorsicht im Umgang mit dem Primarstrahl des Mikroskopes. Ungeachtet dessen gestattet es die vorgestellte Methode, die clektrische Potentialverteilung in Isolatoren nahe ihres Kontaktes zu einem Metall zu untersuchen, ohne den Verbund zu zerstoren. In weiterfuhrenden Untersuchungen kann die Qualitat der Aussage erhoht werden, indem man die Kohleaufdampfschicht vermeidet und die laterale Auflosung der Potentialmessung besser ausnutzt durch verbesserte Variabilitat der Primarstrahlspannung des Mikroskopes.