聚合物数字显微图像的偏振算法

Олександр Григорович Ушенко, Михайло Петрович Горський, Ірина Василівна Солтис, Олександр Володимирович Дуболазов
{"title":"聚合物数字显微图像的偏振算法","authors":"Олександр Григорович Ушенко, Михайло Петрович Горський, Ірина Василівна Солтис, Олександр Володимирович Дуболазов","doi":"10.20535/2077-7264.1(75).2022.266363","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"У статті представлено матеріали аналітичного обґрунтування та експериментальної апробації нового поляриметричного методу азимутально-інваріантного 3D-матричного картування Мюллера розподілів параметрів фазової та амплітудної анізотропії частково деполяризуючих шарів високоякісних (1 група — висока щільність) і низькоякісних плівок. Ідея методу полягає у синтезі трьох незалежних оптичних технік — поляриметрії, інтерферометрії та цифрової голографічної реконструкції полів комплексних амплітуд об’єктного лазерного випромінювання. Даний підхід забезпечує за допомогою дискретного фазового сканування реконструкцію (відновлення) пошарових координатних розподілів випадкових значень величини інваріантів набору матриці Мюллера (ІММ) полімерних плівок обох типів в обсязі зразків полімеру. Мюллер-матричні інваріанти є функціонали, які залежать від обертання оптично анізотропного зразка полімерного шару щодо напряму зондуючого лазерного пучка. В результаті виникає можливість проведення серійних вимірів великої кількості виробничих зразків для отримання об’єктивних критеріїв оцінки полікристалічної архітектоніки полімерних зразків. Використано аналітичний похід, що базується на обчисленні набору статистичних моментів 1-го–4-го порядків, що характеризують статистику карт експериментально отриманих Мюллер-матричних інваріантів. У межах репрезентативних вибірок зразків отримано середні значення всіх центральних статистичних моментів Мюллер-матричних інваріантів. На підставі цього визначено найбільш чутливі до змін полікристалічної архітектоніки параметри — асиметрію та ексцес координатних розподілів матричних інваріантів.","PeriodicalId":52994,"journal":{"name":"Tekhnologiia i tekhnika drukarstva","volume":" ","pages":""},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2022-06-30","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Алгоритми 3D поляризаційної обробки цифрових мікроскопічних зображень поліграфічних полімерів\",\"authors\":\"Олександр Григорович Ушенко, Михайло Петрович Горський, Ірина Василівна Солтис, Олександр Володимирович Дуболазов\",\"doi\":\"10.20535/2077-7264.1(75).2022.266363\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"У статті представлено матеріали аналітичного обґрунтування та експериментальної апробації нового поляриметричного методу азимутально-інваріантного 3D-матричного картування Мюллера розподілів параметрів фазової та амплітудної анізотропії частково деполяризуючих шарів високоякісних (1 група — висока щільність) і низькоякісних плівок. Ідея методу полягає у синтезі трьох незалежних оптичних технік — поляриметрії, інтерферометрії та цифрової голографічної реконструкції полів комплексних амплітуд об’єктного лазерного випромінювання. Даний підхід забезпечує за допомогою дискретного фазового сканування реконструкцію (відновлення) пошарових координатних розподілів випадкових значень величини інваріантів набору матриці Мюллера (ІММ) полімерних плівок обох типів в обсязі зразків полімеру. Мюллер-матричні інваріанти є функціонали, які залежать від обертання оптично анізотропного зразка полімерного шару щодо напряму зондуючого лазерного пучка. В результаті виникає можливість проведення серійних вимірів великої кількості виробничих зразків для отримання об’єктивних критеріїв оцінки полікристалічної архітектоніки полімерних зразків. Використано аналітичний похід, що базується на обчисленні набору статистичних моментів 1-го–4-го порядків, що характеризують статистику карт експериментально отриманих Мюллер-матричних інваріантів. У межах репрезентативних вибірок зразків отримано середні значення всіх центральних статистичних моментів Мюллер-матричних інваріантів. На підставі цього визначено найбільш чутливі до змін полікристалічної архітектоніки параметри — асиметрію та ексцес координатних розподілів матричних інваріантів.\",\"PeriodicalId\":52994,\"journal\":{\"name\":\"Tekhnologiia i tekhnika drukarstva\",\"volume\":\" \",\"pages\":\"\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2022-06-30\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Tekhnologiia i tekhnika drukarstva\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.20535/2077-7264.1(75).2022.266363\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Tekhnologiia i tekhnika drukarstva","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.20535/2077-7264.1(75).2022.266363","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

本文介绍了Miller阶段分布方案的无症状侵入性三维矩阵绘制的新极化方法的分析推理和实验处理材料以及部分去极化的高质量层(1组——高密度)和低质量瓷砖的截除阳极化。该方法的思想是综合三种独立的光学技术:偏振测量、干涉测量和物体激光辐射复杂场的数字全息重建。该方法通过离散相位扫描来重建(恢复)聚合物的万用表矩阵(IM)阵列的变量的随机值的水平坐标聚合物样品范围内的两种类型的膜。多种基质变体是依赖于相对于直接探测激光球旋转聚合物层的光学各向异性图案的函数。因此,可以测量大量的生产样品,以获得评估多晶体聚合物结构的客观标准。基于一组1-4系列统计数据的计算,使用了一种分析方法,这些统计数据表征了实验获得的多矩阵变体的映射统计数据。在具有代表性的样本中,获得米勒矩阵变量的所有中心统计点的平均值。在此基础上,对多晶结构变化最敏感的参数是基质变体的坐标分布的不对称性和狂喜性。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Алгоритми 3D поляризаційної обробки цифрових мікроскопічних зображень поліграфічних полімерів
У статті представлено матеріали аналітичного обґрунтування та експериментальної апробації нового поляриметричного методу азимутально-інваріантного 3D-матричного картування Мюллера розподілів параметрів фазової та амплітудної анізотропії частково деполяризуючих шарів високоякісних (1 група — висока щільність) і низькоякісних плівок. Ідея методу полягає у синтезі трьох незалежних оптичних технік — поляриметрії, інтерферометрії та цифрової голографічної реконструкції полів комплексних амплітуд об’єктного лазерного випромінювання. Даний підхід забезпечує за допомогою дискретного фазового сканування реконструкцію (відновлення) пошарових координатних розподілів випадкових значень величини інваріантів набору матриці Мюллера (ІММ) полімерних плівок обох типів в обсязі зразків полімеру. Мюллер-матричні інваріанти є функціонали, які залежать від обертання оптично анізотропного зразка полімерного шару щодо напряму зондуючого лазерного пучка. В результаті виникає можливість проведення серійних вимірів великої кількості виробничих зразків для отримання об’єктивних критеріїв оцінки полікристалічної архітектоніки полімерних зразків. Використано аналітичний похід, що базується на обчисленні набору статистичних моментів 1-го–4-го порядків, що характеризують статистику карт експериментально отриманих Мюллер-матричних інваріантів. У межах репрезентативних вибірок зразків отримано середні значення всіх центральних статистичних моментів Мюллер-матричних інваріантів. На підставі цього визначено найбільш чутливі до змін полікристалічної архітектоніки параметри — асиметрію та ексцес координатних розподілів матричних інваріантів.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
审稿时长
8 weeks
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信