{"title":"形成用于磁控沉积硅化物涂层的电介质基板","authors":"Б.Д. Игамов, А.И. Камардин, Илхом Рустамович Бекпулатов","doi":"10.52304/.v25i4.469","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Рост оксидных слоев различных диэллектриков на поверхности кремния осуществляют при высокой температуре (1150-1200) по цельсию в атмосфере сухого кислорода O2. Цвет покрытия определяется его толщиной и показателем преломления. При наблюдении света, отраженного под прямым углом (перпендикулярный свет), с учетом того что показатель преломления SiO2 равен 1.46, цветовые оттенки покрытия повторяются по всему спектру от фиолетового до темно-красного через 160-240 нм. SiO2 показывает значительный статистический разброс значений напряжения пробоя (от 15 В до 190 В и выше). Ширина запрещенной зоны с использованием закона отражения (HR-4000) находится в диапазоне от 1.14 до 2.36 эВ. Исследования на IRTracer-100 указывают на образование химической связи между Si-O. Расчеты показали, что напряжённость поля, достаточная для электрического пробоя диоксида кремния, находится в пределах 5 10 5 -5 10 6 В/см.","PeriodicalId":6339,"journal":{"name":"«Узбекский физический журнал»","volume":"5 6","pages":""},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2024-01-17","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Формирование диэлектрических подложек для магнетрон-ного осаждения силицидных покрытий\",\"authors\":\"Б.Д. Игамов, А.И. Камардин, Илхом Рустамович Бекпулатов\",\"doi\":\"10.52304/.v25i4.469\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Рост оксидных слоев различных диэллектриков на поверхности кремния осуществляют при высокой температуре (1150-1200) по цельсию в атмосфере сухого кислорода O2. Цвет покрытия определяется его толщиной и показателем преломления. При наблюдении света, отраженного под прямым углом (перпендикулярный свет), с учетом того что показатель преломления SiO2 равен 1.46, цветовые оттенки покрытия повторяются по всему спектру от фиолетового до темно-красного через 160-240 нм. SiO2 показывает значительный статистический разброс значений напряжения пробоя (от 15 В до 190 В и выше). Ширина запрещенной зоны с использованием закона отражения (HR-4000) находится в диапазоне от 1.14 до 2.36 эВ. Исследования на IRTracer-100 указывают на образование химической связи между Si-O. Расчеты показали, что напряжённость поля, достаточная для электрического пробоя диоксида кремния, находится в пределах 5 10 5 -5 10 6 В/см.\",\"PeriodicalId\":6339,\"journal\":{\"name\":\"«Узбекский физический журнал»\",\"volume\":\"5 6\",\"pages\":\"\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2024-01-17\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"«Узбекский физический журнал»\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.52304/.v25i4.469\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"«Узбекский физический журнал»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.52304/.v25i4.469","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
Формирование диэлектрических подложек для магнетрон-ного осаждения силицидных покрытий
Рост оксидных слоев различных диэллектриков на поверхности кремния осуществляют при высокой температуре (1150-1200) по цельсию в атмосфере сухого кислорода O2. Цвет покрытия определяется его толщиной и показателем преломления. При наблюдении света, отраженного под прямым углом (перпендикулярный свет), с учетом того что показатель преломления SiO2 равен 1.46, цветовые оттенки покрытия повторяются по всему спектру от фиолетового до темно-красного через 160-240 нм. SiO2 показывает значительный статистический разброс значений напряжения пробоя (от 15 В до 190 В и выше). Ширина запрещенной зоны с использованием закона отражения (HR-4000) находится в диапазоне от 1.14 до 2.36 эВ. Исследования на IRTracer-100 указывают на образование химической связи между Si-O. Расчеты показали, что напряжённость поля, достаточная для электрического пробоя диоксида кремния, находится в пределах 5 10 5 -5 10 6 В/см.