Dynamic Alterations of the Surface Composition during Sputtering of Silicides

The temporal development of composition alterations in the surface region of Nisi, MoSi2, and PtSi due to bombardment with Ar+ ions of energy between 2 and 5 keV is studied by 1 keV AES depth profiling. In all cases an enrichment of the heavier (metal) component some nm below the surface is observed. By comparing this result with recent Monte-Carlo calculations it is concluded that the mass difference between components plays the dominant role in the build-up of the composition alterations. This conclusion is supported by trends in the metal peak depth and maximum concentration as well as in surface composition data. The studies show that the composition changes observed are due to a superposition of several sputter mechanisms. Es wird die zeitliche Entwicklung in der Veranderung der Komposition, die durch 2 bis 5 keV Ar+-Ionen an der Oberflache von Nisi, MoSi2 und PtSi erzeugt worden ist, mit Hilfe von 1 keV Auger-Tiefenprofilmessungen verfolgt. In allen Fallen wird eine Anreicherung der schweren (metallischen) Komponente einige nm unter der Oberflache beobachtet. Durch Vergleich mit kurzlich publizierten Monte-Carlo-Rechnungen wird geschlossen, das die Massendifferenz zwischen den Komponenten die dominierende Rolle beim Aufbau der Kompositionsanderungen spielt. Diese Schlusfolgerung wird gestutzt durch Trends, die die Tiefe des Metallmaximums, die Konzentration im Maximum und die Oberflachenkomposition aufweisen. Die Untersuchungen zeigen, das die beobachteten Kompositionsanderungen durch mehrere Sputtermechanismen hervorgerufen werden.