微电子学中的ALD -应用，设备和生产力

Innovations technologiques Pub Date : 2016-10-01 DOI:10.51257/a-v1-re255

Mickaël Gros-Jean, A. Mantoux

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摘要

本文回顾了原子层储存库在微电子领域的应用，从薄层的制造和元件的制造方面。描述了应用、前驱体化学、生长机制和不同类型的反应器(有或没有等离子体辅助)。

本文章由计算机程序翻译，如有差异，请以英文原文为准。

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ALD en microélectronique - Applications, équipements et productivité

Cet article est une revue de l’utilisation du depot par couches atomiques dans le secteur de la microelectronique, en termes d’elaboration de couches minces et de realisation de composants. Les applications, la chimie des precurseurs, les mecanismes de croissance ainsi que les differents type de reacteurs (avec ou sans assistance plasma) sont decrits.

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