{"title":"根据GaAs/AlGaAs基质结构优化深红外光电接收器参数","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-160","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"В работе представлены результаты разработки, исследования и оптимизации параметров\nфотоприемников дальнего ИК диапазона на основе структур с внутренней фотоэмиссией\nпредставленных на рисунке 1.\nЛегированные бериллием слои GaAs служат\nэмиттерами носителей заряда. Фотовозбужденные\nв эмиттере носители переносятся через барьер на\nгранице с нелегированными барьерными слоями\nAlGaAs.\nПреимущество данного типа приемников в\nсравнении с приемниками на основе структур с\nквантовыми ямами аналогичной архитектуры\nсостоит в:\n- возможности регистрации ИК излучения в\nшироком диапазоне, граница спектральной чувствительности может варьироваться от 5 до 200 мкм,\nпутем варьирования состава алюминия в барьерных слоях AlGaAs.\n- высокой квантовая эффективности;\n- регистрации излучения при прямой засветке без необходимости изготовления дифракционных\nэлементов ввода излучения;\n- возможность оптимизации фотоэлектрических параметров с использованием с\nинтерференционных эффектов внутри структуры; [1].\nВ данной работе рассматриваются структуры с pтипом проводимости в эмитирующих слоях GaAs\nлегированная бериллием. Барьерные слои AlGaAs не\nлегированы.\nОдним из путей повышения эффективности данного\nтипа фотоприемников состоит в создании\nдополнительных условий для максимального\nпоглощения принимаемого излучения.\nПри этом возможны несколько вариантов: введение\nдополнительных буферных слоев необходимой\nконфигурации, использование легированной подложки и\nдругое.\nВ работе рассматривается первый вариант. Расчетным\nпутем показано, что введение в подложку, перед\nвыращиванием фоточувствительных слоев, буферных зон (spacer) определенной конфигурации\nприводит к увеличению чувствительности фотоприемников. Результаты расчета приведены на\nследующем рисунке [2].\nНа рисунке показано влияние буферных слоев различного типа проводимости, n и p типа с разной\nконцентрацией уровня легирования, на поглощение излучения в фоточувствительной структуре.\nПолученные результаты показывают возможность увеличения эффективности работы\nфотоприемников различной модификации и с разной спектральной чувствительностью путем\nиспользованием дополнительных буферных слоев.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"12 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Оптимизация параметров фотоприемников дальнего ИК диапазона на основе\\nгетероструктур GaAs/AlGaAs с внутренней фотоэмиссией\",\"authors\":\"\",\"doi\":\"10.34077/rcsp2019-160\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"В работе представлены результаты разработки, исследования и оптимизации параметров\\nфотоприемников дальнего ИК диапазона на основе структур с внутренней фотоэмиссией\\nпредставленных на рисунке 1.\\nЛегированные бериллием слои GaAs служат\\nэмиттерами носителей заряда. Фотовозбужденные\\nв эмиттере носители переносятся через барьер на\\nгранице с нелегированными барьерными слоями\\nAlGaAs.\\nПреимущество данного типа приемников в\\nсравнении с приемниками на основе структур с\\nквантовыми ямами аналогичной архитектуры\\nсостоит в:\\n- возможности регистрации ИК излучения в\\nшироком диапазоне, граница спектральной чувствительности может варьироваться от 5 до 200 мкм,\\nпутем варьирования состава алюминия в барьерных слоях AlGaAs.\\n- высокой квантовая эффективности;\\n- регистрации излучения при прямой засветке без необходимости изготовления дифракционных\\nэлементов ввода излучения;\\n- возможность оптимизации фотоэлектрических параметров с использованием с\\nинтерференционных эффектов внутри структуры; [1].\\nВ данной работе рассматриваются структуры с pтипом проводимости в эмитирующих слоях GaAs\\nлегированная бериллием. Барьерные слои AlGaAs не\\nлегированы.\\nОдним из путей повышения эффективности данного\\nтипа фотоприемников состоит в создании\\nдополнительных условий для максимального\\nпоглощения принимаемого излучения.\\nПри этом возможны несколько вариантов: введение\\nдополнительных буферных слоев необходимой\\nконфигурации, использование легированной подложки и\\nдругое.\\nВ работе рассматривается первый вариант. Расчетным\\nпутем показано, что введение в подложку, перед\\nвыращиванием фоточувствительных слоев, буферных зон (spacer) определенной конфигурации\\nприводит к увеличению чувствительности фотоприемников. Результаты расчета приведены на\\nследующем рисунке [2].\\nНа рисунке показано влияние буферных слоев различного типа проводимости, n и p типа с разной\\nконцентрацией уровня легирования, на поглощение излучения в фоточувствительной структуре.\\nПолученные результаты показывают возможность увеличения эффективности работы\\nфотоприемников различной модификации и с разной спектральной чувствительностью путем\\nиспользованием дополнительных буферных слоев.\",\"PeriodicalId\":118786,\"journal\":{\"name\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"volume\":\"12 1\",\"pages\":\"0\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2019-05-24\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-160\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-160","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
Оптимизация параметров фотоприемников дальнего ИК диапазона на основе
гетероструктур GaAs/AlGaAs с внутренней фотоэмиссией
В работе представлены результаты разработки, исследования и оптимизации параметров
фотоприемников дальнего ИК диапазона на основе структур с внутренней фотоэмиссией
представленных на рисунке 1.
Легированные бериллием слои GaAs служат
эмиттерами носителей заряда. Фотовозбужденные
в эмиттере носители переносятся через барьер на
границе с нелегированными барьерными слоями
AlGaAs.
Преимущество данного типа приемников в
сравнении с приемниками на основе структур с
квантовыми ямами аналогичной архитектуры
состоит в:
- возможности регистрации ИК излучения в
широком диапазоне, граница спектральной чувствительности может варьироваться от 5 до 200 мкм,
путем варьирования состава алюминия в барьерных слоях AlGaAs.
- высокой квантовая эффективности;
- регистрации излучения при прямой засветке без необходимости изготовления дифракционных
элементов ввода излучения;
- возможность оптимизации фотоэлектрических параметров с использованием с
интерференционных эффектов внутри структуры; [1].
В данной работе рассматриваются структуры с pтипом проводимости в эмитирующих слоях GaAs
легированная бериллием. Барьерные слои AlGaAs не
легированы.
Одним из путей повышения эффективности данного
типа фотоприемников состоит в создании
дополнительных условий для максимального
поглощения принимаемого излучения.
При этом возможны несколько вариантов: введение
дополнительных буферных слоев необходимой
конфигурации, использование легированной подложки и
другое.
В работе рассматривается первый вариант. Расчетным
путем показано, что введение в подложку, перед
выращиванием фоточувствительных слоев, буферных зон (spacer) определенной конфигурации
приводит к увеличению чувствительности фотоприемников. Результаты расчета приведены на
следующем рисунке [2].
На рисунке показано влияние буферных слоев различного типа проводимости, n и p типа с разной
концентрацией уровня легирования, на поглощение излучения в фоточувствительной структуре.
Полученные результаты показывают возможность увеличения эффективности работы
фотоприемников различной модификации и с разной спектральной чувствительностью путем
использованием дополнительных буферных слоев.