用于光伏电池的 ALD

D. Pélissier, Nathanaelle Schneider
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Les applications de l’ALD pour le PV sont diverses, avec des degres de maturite differents : de la passivation de cellules de type industriel en silicium aux nouvelles architectures innovantes. Cet article presente les principales utilisations de l’ALD pour le PV et discute des atouts et des limites du procede dans un domaine ou toute innovation doit satisfaire aux contraintes de couts, de dimensions et de stabilite dans le temps. Nota : le lecteur trouvera en fin d’article un tableau des sigles, notations et symboles utilises tout au long de l’article. Points cles Domaine  : Techniques de depot de couches minces Degre de diffusion de la technologie  : Croissance Technologies impliquees  : Depot par couche atomique (ALD, Atomic Layer Deposition ) Domaines d’application  : Photovoltaique Principaux acteurs francais  : Poles de competitivite : Tenerrdis Centres de competence : CEA-INES, IPVF, Institut des nanotechnologies de Lyon, IRDEP, Institut d’electronique, de microelectronique et de nanotechnologie (Lille) , Laboratoire des materiaux et du genie physique (Grenoble) Industriels : Air Liquide, EDF, Encapsulix, Enhelios Autres acteurs dans le monde  : Argonne National Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Eindhoven University of Technology, Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems, Stanford University, Nanyang Technological University, Uppsala University, Energy research Centre of the Netherlands (ECN), Beneq, Levitech, Picosun, SolayTec, Solliance, TNO. Contact  : daniele.blanc@insa-lyon.fr, n.schneider@chimie-paristech.fr","PeriodicalId":222334,"journal":{"name":"Innovations technologiques","volume":"24 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2016-10-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"ALD pour les cellules photovoltaïques\",\"authors\":\"D. Pélissier, Nathanaelle Schneider\",\"doi\":\"10.51257/a-v1-re257\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"La conversion photovoltaique (PV) est une composante incontournable du mix energetique et connait une tres forte croissance grâce aux baisses de couts combinees aux politiques de soutien et aux avancees technologiques. Cet article analyse la contribution du depot par couche atomique ou ALD ( Atomic Layer Deposition ) aux technologies de cellules solaires. 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摘要

光伏(PV)转换是能源组合的重要组成部分,由于成本降低、支持政策和技术进步,光伏转换正在经历非常强劲的增长。本文分析了原子层沉积(ALD)对太阳能电池技术的贡献。原子层沉积(ALD)是一种化学气相沉积技术,可使无机材料生长成厚度亚纳米级的超薄、均匀、保形层。该技术以依次引入前驱体为基础,涉及表面化学反应和自限制饱和机制,可在原子尺度上设计材料。ALD 在光伏领域的应用多种多样,成熟程度也各不相同:从工业型硅电池的钝化到创新型新结构。在光伏领域,任何创新都必须满足成本、尺寸和长期稳定性的限制,本文介绍了 ALD 在这一领域的主要用途,并讨论了该工艺的优势和局限性。注:在文章末尾,读者可以找到文章中使用的缩略语、术语和符号表。要点 领域:薄膜沉积技术 技术普及程度:增长 涉及的技术:原子层沉积(ALD) 应用领域:光伏 法国的主要参与者 :竞争力集群:Tenerrdis 专业技术中心:CEA-INES、IPVF、里昂纳米技术研究所、IRDEP、电子、微电子和纳米技术研究所(里尔)、材料和物理基因实验室(格勒诺布尔) 工业家:其他国际参与者:阿贡国家实验室、洛桑联邦理工学院、埃因霍温理工大学、弗劳恩霍夫太阳能系统研究所、斯坦福大学、南洋理工大学、乌普萨拉大学、荷兰能源研究中心 (ECN)、Beneq、Levitech、Picosun、SolayTec、Solliance、TNO。联系方式:daniele.blanc@insa-lyon.fr, n.schneider@chimie-paristech.fr
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
ALD pour les cellules photovoltaïques
La conversion photovoltaique (PV) est une composante incontournable du mix energetique et connait une tres forte croissance grâce aux baisses de couts combinees aux politiques de soutien et aux avancees technologiques. Cet article analyse la contribution du depot par couche atomique ou ALD ( Atomic Layer Deposition ) aux technologies de cellules solaires. L’ALD est une technique de depot chimique en phase vapeur qui permet la croissance de materiaux inorganiques en couches ultraminces, uniformes, conformes, d’epaisseur subnanometrique. Basee sur l’introduction sequentielle de precurseurs, elle met en jeu des reactions chimiques de surface et des mecanismes de saturation autolimitants qui permettent une ingenierie de materiaux a l’echelle atomique. Les applications de l’ALD pour le PV sont diverses, avec des degres de maturite differents : de la passivation de cellules de type industriel en silicium aux nouvelles architectures innovantes. Cet article presente les principales utilisations de l’ALD pour le PV et discute des atouts et des limites du procede dans un domaine ou toute innovation doit satisfaire aux contraintes de couts, de dimensions et de stabilite dans le temps. Nota : le lecteur trouvera en fin d’article un tableau des sigles, notations et symboles utilises tout au long de l’article. Points cles Domaine  : Techniques de depot de couches minces Degre de diffusion de la technologie  : Croissance Technologies impliquees  : Depot par couche atomique (ALD, Atomic Layer Deposition ) Domaines d’application  : Photovoltaique Principaux acteurs francais  : Poles de competitivite : Tenerrdis Centres de competence : CEA-INES, IPVF, Institut des nanotechnologies de Lyon, IRDEP, Institut d’electronique, de microelectronique et de nanotechnologie (Lille) , Laboratoire des materiaux et du genie physique (Grenoble) Industriels : Air Liquide, EDF, Encapsulix, Enhelios Autres acteurs dans le monde  : Argonne National Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Eindhoven University of Technology, Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems, Stanford University, Nanyang Technological University, Uppsala University, Energy research Centre of the Netherlands (ECN), Beneq, Levitech, Picosun, SolayTec, Solliance, TNO. Contact  : daniele.blanc@insa-lyon.fr, n.schneider@chimie-paristech.fr
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