氧化铜薄膜的制备与表征:甲基橙光降解的应用

Asma Azzoug
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摘要

在这项工作中,我们研究了沉积时间对氧化铜薄层不同性能的影响。首先,在固定温度T=60°和施加电位- 0.5V/ECS的硫酸盐介质中,通过在ITO衬底上电镀制备cu2o薄膜。其次,将氧化铜(cu2o /ITO)的薄膜在500°C下热处理1小时,得到名为cuo /ITO的薄膜。用X射线衍射(xrd)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(sem)和紫外-可见光谱对沉积的薄膜进行了表征。通过直接辐照下甲基橙(MO)的降解,研究了cu2o和CuO薄膜的光催化活性。光解性能表现出较好的降解速率,cu2o的降解速率常数约为0.00087 min-1, CuO的降解速率常数为0.0025 min-1。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Elaboration et caractérisation des couches minces d'oxyde de cuivre : Application à la photo-dégradation de Méthyle Orange
Dans ce travail nous avons étudié l’effet du temps de déposition sur lesdifférentes propriétés des couches minces d’oxyde de cuivre. En premierlieu nous avons élaboré des films minces de Cu 2O par électrodéposition surun substrat ITO dans un milieu sulfate à température fixé de T=60° et unpotentiel imposé de - 0.5V/ECS. En second lieu les couches minces del’oxyde de cuivre (Cu 2O/ITO) ont subi un traitement thermique àtempérature de 500 °C pendant 1h pour obtenir des films mince nomméCuO/ITO. Les couches minces déposées ont été caractérisées par ladiffraction du rayon X (DRX), la microscopie à force atomique (AFM), lemicroscope électronique à balayage (MEB) et la spectroscopie UV-Vis.L’activité photocatalytique des films Cu 2O et CuO a été étudiée au moyende la dégradation du méthyl orange (MO) sous irradiation directe de rayonsUV. Les propriétés photocalytique montrent des meilleures vitesses dedégradation avec une constante de vitesse de l’ordre 0,00087 min -1 pourCu2O et 0.0025 min-1 pour CuO.    
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