{"title":"使用Sn作为无部署纳米技术增长的催化剂","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-116","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Интерес к классу материалов Si-Ge-Sn значительно возрос в последние годы в связи с\nвозможностью реализации прямозонного материала и монолитной интеграции электронных и\nфотонных устройств на едином кремниевом кристалле [1, 2]. Большинство исследований направлены\nна создание структур на основе GeSn и GeSiSn. Тем не менее, SiSn также является важным\nматериалом для кремниевой фотоники.\nНаши исследования были посвящены изучению влияния Sn на образование твердого раствора SiSn\nна подложке Si(100) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Вначале на поверхности Si\nформировалась пленка Sn различной толщины, а затем отжигалась для создания массива островков\nSn, которые использовались в качестве катализаторов роста островков SiSn с кремниевыми\nпьедесталами. Основным методом контроля морфологии и структуры поверхности была дифракция\nбыстрых электронов. Морфологию\nпленки, включая островки Sn и островки\nSiSn с пьедесталами, анализировали с\nпомощью сканирующей электронной\nмикроскопии (СЭМ) и сканирующей\nтуннельной микроскопии. Элементный\nсостав исследовали методами\nэнергодисперсионной рентгеновской\nспектроскопии, встроенной в систему\nСЭМ, и рентгеновской фотоэлектронной\nспектроскопии (РФС). Оптические\nсвойства образцов изучали методом\nспектроскопии фотолюминесценции (ФЛ).\nМассив островков SiSn с кремниевым\nпьедесталом на подложке Si(100) получен\nметодом молекулярно-лучевой эпитаксии\nпо механизму пар-жидкость-кристалл\n(ПЖК) [3]. Образование твердого\nраствора SiSn в островках было\nподтверждено методами\nэнергодисперсионной рентгеновской\nспектроскопии и РФС. Уникальность этих структур заключается в отсутствии каких-либо дислокаций\nи дефектов. Кроме того, они продемонстрировали интенсивную фотолюминесценцию в ближней\nинфракрасной (ИК) области 1,3-1,7 мкм (рисунок). Эти структуры показывают фотолюминесценцию,\nкоторая больше, чем сигнал фотолюминесценции от многослойных периодических структур (кривая\n2 на рисунке), включая псевдоморфные слои SiSn и полученные нами ранее.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"56 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Использование Sn в качестве катализатора роста бездислокационных наноструктур\\nSiSn\",\"authors\":\"\",\"doi\":\"10.34077/rcsp2019-116\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Интерес к классу материалов Si-Ge-Sn значительно возрос в последние годы в связи с\\nвозможностью реализации прямозонного материала и монолитной интеграции электронных и\\nфотонных устройств на едином кремниевом кристалле [1, 2]. Большинство исследований направлены\\nна создание структур на основе GeSn и GeSiSn. Тем не менее, SiSn также является важным\\nматериалом для кремниевой фотоники.\\nНаши исследования были посвящены изучению влияния Sn на образование твердого раствора SiSn\\nна подложке Si(100) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Вначале на поверхности Si\\nформировалась пленка Sn различной толщины, а затем отжигалась для создания массива островков\\nSn, которые использовались в качестве катализаторов роста островков SiSn с кремниевыми\\nпьедесталами. Основным методом контроля морфологии и структуры поверхности была дифракция\\nбыстрых электронов. Морфологию\\nпленки, включая островки Sn и островки\\nSiSn с пьедесталами, анализировали с\\nпомощью сканирующей электронной\\nмикроскопии (СЭМ) и сканирующей\\nтуннельной микроскопии. Элементный\\nсостав исследовали методами\\nэнергодисперсионной рентгеновской\\nспектроскопии, встроенной в систему\\nСЭМ, и рентгеновской фотоэлектронной\\nспектроскопии (РФС). Оптические\\nсвойства образцов изучали методом\\nспектроскопии фотолюминесценции (ФЛ).\\nМассив островков SiSn с кремниевым\\nпьедесталом на подложке Si(100) получен\\nметодом молекулярно-лучевой эпитаксии\\nпо механизму пар-жидкость-кристалл\\n(ПЖК) [3]. Образование твердого\\nраствора SiSn в островках было\\nподтверждено методами\\nэнергодисперсионной рентгеновской\\nспектроскопии и РФС. Уникальность этих структур заключается в отсутствии каких-либо дислокаций\\nи дефектов. Кроме того, они продемонстрировали интенсивную фотолюминесценцию в ближней\\nинфракрасной (ИК) области 1,3-1,7 мкм (рисунок). Эти структуры показывают фотолюминесценцию,\\nкоторая больше, чем сигнал фотолюминесценции от многослойных периодических структур (кривая\\n2 на рисунке), включая псевдоморфные слои SiSn и полученные нами ранее.\",\"PeriodicalId\":118786,\"journal\":{\"name\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"volume\":\"56 1\",\"pages\":\"0\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2019-05-24\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-116\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-116","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
Использование Sn в качестве катализатора роста бездислокационных наноструктур
SiSn
Интерес к классу материалов Si-Ge-Sn значительно возрос в последние годы в связи с
возможностью реализации прямозонного материала и монолитной интеграции электронных и
фотонных устройств на едином кремниевом кристалле [1, 2]. Большинство исследований направлены
на создание структур на основе GeSn и GeSiSn. Тем не менее, SiSn также является важным
материалом для кремниевой фотоники.
Наши исследования были посвящены изучению влияния Sn на образование твердого раствора SiSn
на подложке Si(100) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Вначале на поверхности Si
формировалась пленка Sn различной толщины, а затем отжигалась для создания массива островков
Sn, которые использовались в качестве катализаторов роста островков SiSn с кремниевыми
пьедесталами. Основным методом контроля морфологии и структуры поверхности была дифракция
быстрых электронов. Морфологию
пленки, включая островки Sn и островки
SiSn с пьедесталами, анализировали с
помощью сканирующей электронной
микроскопии (СЭМ) и сканирующей
туннельной микроскопии. Элементный
состав исследовали методами
энергодисперсионной рентгеновской
спектроскопии, встроенной в систему
СЭМ, и рентгеновской фотоэлектронной
спектроскопии (РФС). Оптические
свойства образцов изучали методом
спектроскопии фотолюминесценции (ФЛ).
Массив островков SiSn с кремниевым
пьедесталом на подложке Si(100) получен
методом молекулярно-лучевой эпитаксии
по механизму пар-жидкость-кристалл
(ПЖК) [3]. Образование твердого
раствора SiSn в островках было
подтверждено методами
энергодисперсионной рентгеновской
спектроскопии и РФС. Уникальность этих структур заключается в отсутствии каких-либо дислокаций
и дефектов. Кроме того, они продемонстрировали интенсивную фотолюминесценцию в ближней
инфракрасной (ИК) области 1,3-1,7 мкм (рисунок). Эти структуры показывают фотолюминесценцию,
которая больше, чем сигнал фотолюминесценции от многослойных периодических структур (кривая
2 на рисунке), включая псевдоморфные слои SiSn и полученные нами ранее.