使用Sn作为无部署纳米技术增长的催化剂

{"title":"使用Sn作为无部署纳米技术增长的催化剂","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-116","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Интерес к классу материалов Si-Ge-Sn значительно возрос в последние годы в связи с\nвозможностью реализации прямозонного материала и монолитной интеграции электронных и\nфотонных устройств на едином кремниевом кристалле [1, 2]. Большинство исследований направлены\nна создание структур на основе GeSn и GeSiSn. Тем не менее, SiSn также является важным\nматериалом для кремниевой фотоники.\nНаши исследования были посвящены изучению влияния Sn на образование твердого раствора SiSn\nна подложке Si(100) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Вначале на поверхности Si\nформировалась пленка Sn различной толщины, а затем отжигалась для создания массива островков\nSn, которые использовались в качестве катализаторов роста островков SiSn с кремниевыми\nпьедесталами. Основным методом контроля морфологии и структуры поверхности была дифракция\nбыстрых электронов. Морфологию\nпленки, включая островки Sn и островки\nSiSn с пьедесталами, анализировали с\nпомощью сканирующей электронной\nмикроскопии (СЭМ) и сканирующей\nтуннельной микроскопии. Элементный\nсостав исследовали методами\nэнергодисперсионной рентгеновской\nспектроскопии, встроенной в систему\nСЭМ, и рентгеновской фотоэлектронной\nспектроскопии (РФС). Оптические\nсвойства образцов изучали методом\nспектроскопии фотолюминесценции (ФЛ).\nМассив островков SiSn с кремниевым\nпьедесталом на подложке Si(100) получен\nметодом молекулярно-лучевой эпитаксии\nпо механизму пар-жидкость-кристалл\n(ПЖК) [3]. Образование твердого\nраствора SiSn в островках было\nподтверждено методами\nэнергодисперсионной рентгеновской\nспектроскопии и РФС. Уникальность этих структур заключается в отсутствии каких-либо дислокаций\nи дефектов. Кроме того, они продемонстрировали интенсивную фотолюминесценцию в ближней\nинфракрасной (ИК) области 1,3-1,7 мкм (рисунок). Эти структуры показывают фотолюминесценцию,\nкоторая больше, чем сигнал фотолюминесценции от многослойных периодических структур (кривая\n2 на рисунке), включая псевдоморфные слои SiSn и полученные нами ранее.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"56 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Использование Sn в качестве катализатора роста бездислокационных наноструктур\\nSiSn\",\"authors\":\"\",\"doi\":\"10.34077/rcsp2019-116\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Интерес к классу материалов Si-Ge-Sn значительно возрос в последние годы в связи с\\nвозможностью реализации прямозонного материала и монолитной интеграции электронных и\\nфотонных устройств на едином кремниевом кристалле [1, 2]. Большинство исследований направлены\\nна создание структур на основе GeSn и GeSiSn. Тем не менее, SiSn также является важным\\nматериалом для кремниевой фотоники.\\nНаши исследования были посвящены изучению влияния Sn на образование твердого раствора SiSn\\nна подложке Si(100) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Вначале на поверхности Si\\nформировалась пленка Sn различной толщины, а затем отжигалась для создания массива островков\\nSn, которые использовались в качестве катализаторов роста островков SiSn с кремниевыми\\nпьедесталами. Основным методом контроля морфологии и структуры поверхности была дифракция\\nбыстрых электронов. Морфологию\\nпленки, включая островки Sn и островки\\nSiSn с пьедесталами, анализировали с\\nпомощью сканирующей электронной\\nмикроскопии (СЭМ) и сканирующей\\nтуннельной микроскопии. Элементный\\nсостав исследовали методами\\nэнергодисперсионной рентгеновской\\nспектроскопии, встроенной в систему\\nСЭМ, и рентгеновской фотоэлектронной\\nспектроскопии (РФС). Оптические\\nсвойства образцов изучали методом\\nспектроскопии фотолюминесценции (ФЛ).\\nМассив островков SiSn с кремниевым\\nпьедесталом на подложке Si(100) получен\\nметодом молекулярно-лучевой эпитаксии\\nпо механизму пар-жидкость-кристалл\\n(ПЖК) [3]. Образование твердого\\nраствора SiSn в островках было\\nподтверждено методами\\nэнергодисперсионной рентгеновской\\nспектроскопии и РФС. Уникальность этих структур заключается в отсутствии каких-либо дислокаций\\nи дефектов. Кроме того, они продемонстрировали интенсивную фотолюминесценцию в ближней\\nинфракрасной (ИК) области 1,3-1,7 мкм (рисунок). Эти структуры показывают фотолюминесценцию,\\nкоторая больше, чем сигнал фотолюминесценции от многослойных периодических структур (кривая\\n2 на рисунке), включая псевдоморфные слои SiSn и полученные нами ранее.\",\"PeriodicalId\":118786,\"journal\":{\"name\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"volume\":\"56 1\",\"pages\":\"0\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2019-05-24\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-116\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-116","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

近年来,对Si-Ge-Sn材料类别的兴趣显著增加,因为单区域材料的实现和电子电子和光子设备在单一硅晶体上的一致性(1、2)。大多数研究旨在建立基于GeSn和GeSiSn的结构。然而,SiSn也是硅光子的重要材料。我们的研究是研究Sn对sisnn在Si(100)底座上形成固体sisnn的影响。最初,在表面形成了不同厚度的Sn胶片,然后被烧成碎片,形成了一组Sn,作为Sn增长的催化剂。控制表面形态和结构的主要方法是快速衍射电子。包括Sn岛和基座岛在内的形态胶片分析了扫描电子显微镜(山姆)的孢子和扫描隧道显微镜。元素分析了系统中嵌入的能量分散x光光谱学和x光光谱学(rfc)。光学样品学(fl)光谱学。在Si(100)底座上的SiSn大岛是由分子流体-晶体机制(pjc)产生的。SiSn在岛上的固态溶液是通过能量分散x射线光谱学和rfc证实的。这些结构的独特之处在于没有任何部署缺陷。他们还展示了近红外区域1.3 - 1.7 m(图)的强烈光照发光。这些结构显示的光照发光比多层周期结构(图中的曲线2)的光照发光信号更大,包括我们之前得到的假形态层。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Использование Sn в качестве катализатора роста бездислокационных наноструктур SiSn
Интерес к классу материалов Si-Ge-Sn значительно возрос в последние годы в связи с возможностью реализации прямозонного материала и монолитной интеграции электронных и фотонных устройств на едином кремниевом кристалле [1, 2]. Большинство исследований направлены на создание структур на основе GeSn и GeSiSn. Тем не менее, SiSn также является важным материалом для кремниевой фотоники. Наши исследования были посвящены изучению влияния Sn на образование твердого раствора SiSn на подложке Si(100) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Вначале на поверхности Si формировалась пленка Sn различной толщины, а затем отжигалась для создания массива островков Sn, которые использовались в качестве катализаторов роста островков SiSn с кремниевыми пьедесталами. Основным методом контроля морфологии и структуры поверхности была дифракция быстрых электронов. Морфологию пленки, включая островки Sn и островки SiSn с пьедесталами, анализировали с помощью сканирующей электронной микроскопии (СЭМ) и сканирующей туннельной микроскопии. Элементный состав исследовали методами энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии, встроенной в систему СЭМ, и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФС). Оптические свойства образцов изучали методом спектроскопии фотолюминесценции (ФЛ). Массив островков SiSn с кремниевым пьедесталом на подложке Si(100) получен методом молекулярно-лучевой эпитаксии по механизму пар-жидкость-кристалл (ПЖК) [3]. Образование твердого раствора SiSn в островках было подтверждено методами энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии и РФС. Уникальность этих структур заключается в отсутствии каких-либо дислокаций и дефектов. Кроме того, они продемонстрировали интенсивную фотолюминесценцию в ближней инфракрасной (ИК) области 1,3-1,7 мкм (рисунок). Эти структуры показывают фотолюминесценцию, которая больше, чем сигнал фотолюминесценции от многослойных периодических структур (кривая 2 на рисунке), включая псевдоморфные слои SiSn и полученные нами ранее.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信