Pengaruh Temperatur Annealing Terhadap Sifat Film Tipis ZnO:Ga Dengan Metode DC Magnetron Sputtering

Abstract

Film tipis ZnO:Ga telah berhasil ditumbuhkan menggunakan metode DC Magnetron Sputtering (homemade) dengan treatment annealing pada temperatur 250 ⁰C dan 400 ⁰C. Karakterisasi optik film tipis menggunakan spektrometer Uv-Vis pada rentang panjang gelombang 400–800 nm untuk temperatur 250 ⁰C menghasilkan nilai transmitansi sebesar 84,019% dengan Eg 3,34 eV dan ketebalan film 454,26 nm, sedangkan film dengan temperatur 400 ⁰C didapatkan nilai transmitansi sebesar 83,878% dengan Eg 3,38 eV dan ketebalan film 755,6 nm. Citra SEM menunjukkan bahwa film yang diannealing pada temperatur 250 ⁰C mempunyai ukuran butir (grain size) yang lebih kecil dengan morfologi permukaan yang lebih rata dibandingkan film tipis yang diannealing pada temperatur 400 ⁰C.