Optiques multicouches EUV

Abstract

L'elaboration de nouveaux revetements interferentiels multicouches est motivee par la demande de l'astrophysique solaire et par le developpement de nouvelles sources de rayonnement EUV (source a generation d'harmoniques d'ordre eleve, laser X, rayonnement synchrotron). Nous avons etudie et developpe differents systemes multicouches possedant a la fois des proprietes optiques optimisees (reflectivite et/ou bande passante) et une bonne stabilite temporelle et thermique pour la gamme de longueurs d'onde comprise entre λ. = 30nm et λ = 50nm. Une augmentation significative de la reflectivite des multicouches dans la gamme spectrale de 30 a 40nm a ete obtenue par l'addition d'un troisieme materiau dans l'empilement. Une etude comparative des courbes de reflectivites theorique et experimentale en fonction de la longueur d'onde a ete menee. Les differences observees ont pu etre expliquees notamment a l'aide de l'analyse des proprietes physiques des differents materiaux en couche mince. Nous montrons egalement que l'utilisation de ces multicouches a trois materiaux par periode permet le developpement d'empilements repondant a des demandes specifiques (miroirs a large bande passante, miroirs a double bande). Pour les longueurs d'ondes comprises entre 35 nm et 50nm nous avons developpe des multicouches a base de scandium. Cette etude a permis d'obtenir des multicouches avec de forts pouvoirs reflecteurs et une bonne stabilite temporelle. La stabilite de ces empilements a pu etre amelioree a l'aide de l'insertion aux interfaces de couches barrieres.