A CBLM Approach to the Electronic Structure of Transition Metal Impurities in Silicon

S. Wilke, J. Masek, B. Velicky
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Abstract

La structure electronique de ces elements dans Si est decrite par une methode parametrisee de reseau de Bethe d'amas a liaisons fortes. Cette methode est basee sur la description explicite d'un amas representant un site interstitiel tetraedrique typique du silicium
硅中过渡金属杂质电子结构的CBLM方法
Si中这些元素的电子结构是用参数化的强连接Bethe amas晶格法确定的。这种方法是基于一个代表典型的四面体间隙位置的团簇的明确描述
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