ESTUDIO TEÓRICO DE INTERACCIONES INTERMOLECULARES EN COMPUESTOS (CARBONIL) PSEUDO-HALOGENADOS, XC(O)Z Y X-SCN, X: F, CL, CCL2F, CCL3 Y Z: NCS, SCN

Christian David Alcívar León, Jonathan Buenaño-Peñafiel, Pablo Bonilla-Valladares, Trosky Yánez-Darquea, Daniel Zurita-Saltos, Sonia Ulic, Luis Ramos-Guerrero
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Abstract

Se estudió por métodos teóricos la naturaleza de las principales interacciones intermoleculares, a partir del análisis de archivos de información cristalográfica (CIF) de moléculas pseudohalogenadas CCl2FSCN*, CCl3SCN*, ClC(O)SCN*, FC(O)NCS*, FC(O)SCN*. Se estudió por el método de Hirshfeld, la contribución de las principales interacciones intermoleculares (gráficos 2D huellas dactilares) y las energías de interacción. Por otra parte, se realizó el análisis AIM, NCI, Laplaciano de la densidad electrónica y mapas de potencial electrostático, analizando varios parámetros fisicoquímicos como la lagraniana G(r), energía potencial virial V(r), Laplaciana, Hamiltoniano de la energía cinética H(r) y el operador , que permitieron clarificar el carácter y tipo de interacción intermolecular, complementando con el análisis NBO. Para las moléculas CCl2FC(O)NCS, CCl2FC(O)SCN, CCl3C(O)NCS, CCl3C(O)SCN, ClC(O)NCS, ClSCN y FSCN no se disponía de información cristalográfica (CIF), por lo tanto, se realizó una evaluación mediante análisis AIM, NCI, Laplaciano y mapas de potencial electrostático. Se utilizó software como Gaussian16W, MultiWfn, Crystal Explorer, Mercury, VMD y WinGx. Se evidenció interacciones N…S (calcógena), Cl…F (halógena) y N…Cl (halógeno) tipo agujero sigma presentes en las moléculas de tipo XC(O)SCN y XSCN (CCl2FSCN*, CCl3SCN*, ClC(O)SCN*, FC(O)NCS* y FC(O)SCN*) estudiadas desde los archivos CIF. Por otra parte, en el análisis de los mapas de potencial electrostático y el comportamiento del Laplaciano de densidad electrónica en los átomos, sin estructura cristalina (CIF), ClSCN evidencia disminución de la densidad electrónica en el átomo de cloro, por lo tanto, muestra potencial para formar interacciones N…Cl (halógeno), mientras que FSCN, CCl2FCOSCN y CCl3COSCN sugieren la probabilidad de interacciones N…S (calcógenas).
伪卤化(羰基)化合物XC(O)Z和X-SCN, X: F, CL, CCL2F, CCL3和Z: NCS, SCN分子间相互作用的理论研究
通过对伪卤化分子CCl2FSCN*、CCl3SCN*、ClC(O)SCN*、FC(O)NCS*、FC(O)SCN*的晶体学信息文件(CIF)分析,通过理论方法研究了主要分子间相互作用的性质。用Hirshfeld方法研究了主要分子间相互作用(二维指纹图)和相互作用能的贡献。另一方面,分析了AIM、年、Laplaciano电子密度和电势图,分析各种理化参数作为lagraniana G (r),能源潜力virial V (r)、Laplaciana动能的哈密顿H (r)和运营商,使澄清intermolecular互动的性质和类型,以补充NBO分析。对于CCl2FC(O)NCS、CCl2FC(O)SCN、CCl3C(O)NCS、CCl3C(O)SCN、ClC(O)NCS、ClSCN和FSCN分子,没有晶体学信息(CIF),因此采用AIM、NCI、拉普拉斯分析和静电电位图进行评价。使用了高斯16w、MultiWfn、Crystal Explorer、Mercury、VMD和WinGx等软件。在CIF文件中研究的XC(O)SCN和XSCN (CCl2FSCN*, CCl3SCN*, ClC(O)SCN*, FC(O)NCS*和FC(O)SCN*)分子中存在N…S(硫素),Cl…F(卤素)和N…Cl(卤素)sigma孔型相互作用。另一方面,在分析电势图和Laplaciano行为无晶体结构,原子的电子密度(CIF), ClSCN证据减少氯原子的电子密度,因此显示的潜力,以形成N ... ll(卤素)的互动,而FSCN CCl2FCOSCN交互而CCl3COSCN提示概率N ... S (calcógenas)。
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