Estudio de Confiabilidad en Diodos Basados en AlGaN/GaN Durante el Estado de Encendido

Q4 Physics and Astronomy
E. Acurio, Lionel Trojman, Brice De Jaeger, Benoit Bakeroot
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Abstract

Este trabajo tiene como objetivo estudiar la degradación de los diodos de barrera Schottky (SBD) con una terminación de borde cerrado (GET) bajo condiciones de estrés en estado de encendido en tecnologías de 200V y 650V. Después de todos los experimentos de estrés, se observa un comportamiento recuperable, que indica el atrapamiento de cargas en defectos preexistentes y no creación de nuevas trampas. Un análisis estadístico amplio demuestra una mayor confiabilidad y una vida útil más larga en comparación con trabajos anteriores en una tecnología de 200 V. Para la tecnología de 650V, se analizaron variaciones en el ánodo como una doble capa GET y el uso de Al2O3/SiO2 como dieléctrico. Se obtuvo una menor degradación total en el segundo caso gracias a la compensación entre los mecanismos de resistencia de encendido (RON) y voltaje de encendido (VTON). Se observan algunas diferencias sistemáticas en la degradación de los parámetros según la ubicación de la oblea, probablemente causadas por variaciones relacionadas con el proceso. Mediante el uso de la técnica de pares coincidentes (MP), se ha demostrado que se pueden obtener distribuciones de probabilidad caracterizadas por pendientes de Weibull únicas sobre la oblea que podrían permitir una mejor caracterización de la confiabilidad intrínseca de estos dispositivos.
基于AlGaN/GaN的二极管在点火状态下的可靠性研究
本文旨在研究在200V和650V技术下,在点火应力状态下,具有封闭边缘端接的肖特基势垒二极管(SBD)的退化。在所有应力实验之后,观察到一种可恢复的行为,表明电荷在先前存在的缺陷中被捕获,而不是产生新的陷阱。广泛的统计分析表明,与以前在200V技术中的工作相比,可靠性更高,使用寿命更长。对于650V技术,分析了阳极作为GET双层和使用Al2O3/SiO2作为电介质的变化。在第二种情况下,由于点火电阻(RON)和点火电压(VTON)机制之间的补偿,总降解率较低。根据晶片的位置,在参数退化方面观察到一些系统性的差异,可能是由与工艺相关的变化引起的。通过使用匹配对技术(MP),可以获得以晶圆上独特的威布尔斜率为特征的概率分布,这可以更好地表征这些设备的内在可靠性。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
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Revista Politecnica
Revista Politecnica Chemistry-Chemistry (miscellaneous)
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