Lif Karışım Oranı ve Toz Alma İşleminin Wilton Tipi Yüz-Yüze Halıların Tozuma Derecesine Etkileri

Abstract

Ştapel liflerden egrilmis hav iplikleri kullanilarak elde edilen dokuma halilar kullanim esnasinda basinc ve surtunme kuvvetlerine maruz kalmaktadir. Bu kuvvetlerin etkisiyle hav ipliginde bukum acilarak serbest kalan liflerin iplikten ayrilarak hali yuzeyinde toplanmasi soz konusu olmaktadir. Hali yuzeyinde meydana gelen bu degisime tozuma denilmektedir. Gunumuzde hali tozuma derecesini en aza indirgeyebilmek amaciyla halilara toz alma islemi uygulanmaktadir. Bu calismada lif karisim oraninin ve toz alma isleminin halilarin tozuma dereceleri uzerindeki etkilerinin belirlenmesi amaclanmistir. Calisma kapsaminda, viskon (CV) ve akrilik (PAN) lifleri kullanilarak %100 CV, %80/20 CV/PAN, %50/50 CV/PAN, %20/80 CV/PAN ve %100 PAN hav iplikleri ayni uretim parametrelerinde uretilmistir. Daha sonra bu ipliklerden ayni sartlarda yuz-yuze wilton tipi hali numuneleri elde edilmistir. Toz alma islemi oncesi ve sonrasi hali numunelerinin tozuma dereceleri tespit edilmistir. Toz alma isleminin ve karisim oraninin tozuma derecesi uzerindeki etkilerini belirleyebilmek amaciyla sonuclar istatistiksel olarak %95 guven araliginda degerlendirilmistir. Ayrica, toz alma islemi sonrasinda hali numunelerine sikistirilabilirlik ve reziliyans ozelliklerini incelemek amaciyla, her bir hali numunesi icin sikistirma isi (j/m2) ve sikistirma geri donus (%) ozellikleri belirlenerek sonuclar istatistiksel olarak analiz edilmistir. Sonuc olarak, toz alma isleminin ve karisim oraninin hali tozuma derecesi uzerinde anlamli bir etkisinin oldugu belirlenmistir. Hali sikistirma isinin %100 PAN hav ipliginden uretilen halida ve sikistirma geri donusun ise %20/80 CV/PAN hav ipliginden uretilen halida en yuksek degere sahip oldugu sonucuna ulasilmistir.