Compositional tailoring of indium-free GZO layers via plasma-enhanced atomic layer deposition for highly stable IGZO/GZO TFT

IF 3.7 3区工程技术 Q2 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY

Journal of Information Display Pub Date : 2023-12-15 DOI:10.1080/15980316.2023.2292465

Hye-Jin Oh, Yoon-Seo Kim, Hyun-Jun Jeong, Sunhee Lee, Joon Seok Park, Jinsin Park

引用次数: 0

查看原文本刊更多论文

通过等离子体增强原子层沉积定制无铟 GZO 层的组成，实现高度稳定的 IGZO/GZO TFT

本文章由计算机程序翻译，如有差异，请以英文原文为准。

求助全文

约1分钟内获得全文求助全文

来源期刊

Journal of Information Display MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY-

CiteScore

7.10

自引率

5.40%

发文量

审稿时长

30 weeks