{"title":"Создание фотослоя на основе селена с помощью импульсного отжига","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-23","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"В данной работе была исследована возможность создания фоточувствительных структур ИКдиапазона на основе кремния, легированного селеном свыше предела растворимости (hyper doped\nsilicon). Полученные результаты могут быть использованы в солнечной энергетике, а также для\nсоздания фотоприёмных устройств ИК-диапазона.\nВ настоящее время тепловизионные системы ИК-диапазона получили широкое распространение в\nмедицине, автомобильной промышленности, строительстве и т.д. Основой для создания фотонных\nдетекторов служат соединения A\nIIIB\nV\nи АIIB\nVI\n, в то время как для тепловых детекторов используют\nматериалы с высоким температурным коэффициентом сопротивления. И то, и другое создаёт\nопределённые технологические трудности при интеграции фоточувствительных элементов с\nэлектронной схемой управления и усиления, выполненной по традиционной кремниевой технологии.\nВ то же время, использование кремния для детектирования ИК-излучения затруднительно, в силу его\nбольшой ширины запрещенной зоны.\nРасширить диапазон поглощения кремнием ИК-излучения возможно, например, за счёт\nпримесного поглощения, для чего необходимо легирование кремния примесями, образующими\nглубокие уровни [1]. Одним из наиболее подходящих для данных задач элементом является селен за\nсчет большого сечения фотоионизации и низкого сечения захвата. Однако селен имеет достаточно\nнизкий предел растворимости в кремнии и высокий коэффициент диффузии. Первое снижает\nмаксимально достижимый квантовый выход, а второе ограничивает плотность фоточувствительных\nэлементов.\nРешить обе этих проблемы можно, используя для формирования фоточувствительного слоя\nбыстрый термический отжиг. При этом удаётся сформировать субмикронные легированные слои с\nконцентрацией селена, превышающей предел растворимости [2].\nБыла отработана технология импульсного отжига для создания фоточувствительного слоя на\nоснове селена. Структура и состав полученных слоёв контролировались с помощью рамановских\nспектров и спектров поглощения. Концентрация свободных носителей определялась с помощью\nвольт-фарадных характеристик и эффекта Холла. Фотоэлектрические свойства слоя были\nисследованы при 77К на фотосопротивлениях и фотодиодах. Результаты подтверждают возможность\nсоздания фоточувствительных структур ИК-диапазона на основе кремния, легированного селеном\nсвыше предела растворимости.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"15 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-23","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Abstract
В данной работе была исследована возможность создания фоточувствительных структур ИКдиапазона на основе кремния, легированного селеном свыше предела растворимости (hyper doped
silicon). Полученные результаты могут быть использованы в солнечной энергетике, а также для
создания фотоприёмных устройств ИК-диапазона.
В настоящее время тепловизионные системы ИК-диапазона получили широкое распространение в
медицине, автомобильной промышленности, строительстве и т.д. Основой для создания фотонных
детекторов служат соединения A
IIIB
V
и АIIB
VI
, в то время как для тепловых детекторов используют
материалы с высоким температурным коэффициентом сопротивления. И то, и другое создаёт
определённые технологические трудности при интеграции фоточувствительных элементов с
электронной схемой управления и усиления, выполненной по традиционной кремниевой технологии.
В то же время, использование кремния для детектирования ИК-излучения затруднительно, в силу его
большой ширины запрещенной зоны.
Расширить диапазон поглощения кремнием ИК-излучения возможно, например, за счёт
примесного поглощения, для чего необходимо легирование кремния примесями, образующими
глубокие уровни [1]. Одним из наиболее подходящих для данных задач элементом является селен за
счет большого сечения фотоионизации и низкого сечения захвата. Однако селен имеет достаточно
низкий предел растворимости в кремнии и высокий коэффициент диффузии. Первое снижает
максимально достижимый квантовый выход, а второе ограничивает плотность фоточувствительных
элементов.
Решить обе этих проблемы можно, используя для формирования фоточувствительного слоя
быстрый термический отжиг. При этом удаётся сформировать субмикронные легированные слои с
концентрацией селена, превышающей предел растворимости [2].
Была отработана технология импульсного отжига для создания фоточувствительного слоя на
основе селена. Структура и состав полученных слоёв контролировались с помощью рамановских
спектров и спектров поглощения. Концентрация свободных носителей определялась с помощью
вольт-фарадных характеристик и эффекта Холла. Фотоэлектрические свойства слоя были
исследованы при 77К на фотосопротивлениях и фотодиодах. Результаты подтверждают возможность
создания фоточувствительных структур ИК-диапазона на основе кремния, легированного селеном
свыше предела растворимости.