Создание фотослоя на основе селена с помощью импульсного отжига

{"title":"Создание фотослоя на основе селена с помощью импульсного отжига","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-23","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"В данной работе была исследована возможность создания фоточувствительных структур ИКдиапазона на основе кремния, легированного селеном свыше предела растворимости (hyper doped\nsilicon). Полученные результаты могут быть использованы в солнечной энергетике, а также для\nсоздания фотоприёмных устройств ИК-диапазона.\nВ настоящее время тепловизионные системы ИК-диапазона получили широкое распространение в\nмедицине, автомобильной промышленности, строительстве и т.д. Основой для создания фотонных\nдетекторов служат соединения A\nIIIB\nV\nи АIIB\nVI\n, в то время как для тепловых детекторов используют\nматериалы с высоким температурным коэффициентом сопротивления. И то, и другое создаёт\nопределённые технологические трудности при интеграции фоточувствительных элементов с\nэлектронной схемой управления и усиления, выполненной по традиционной кремниевой технологии.\nВ то же время, использование кремния для детектирования ИК-излучения затруднительно, в силу его\nбольшой ширины запрещенной зоны.\nРасширить диапазон поглощения кремнием ИК-излучения возможно, например, за счёт\nпримесного поглощения, для чего необходимо легирование кремния примесями, образующими\nглубокие уровни [1]. Одним из наиболее подходящих для данных задач элементом является селен за\nсчет большого сечения фотоионизации и низкого сечения захвата. Однако селен имеет достаточно\nнизкий предел растворимости в кремнии и высокий коэффициент диффузии. Первое снижает\nмаксимально достижимый квантовый выход, а второе ограничивает плотность фоточувствительных\nэлементов.\nРешить обе этих проблемы можно, используя для формирования фоточувствительного слоя\nбыстрый термический отжиг. При этом удаётся сформировать субмикронные легированные слои с\nконцентрацией селена, превышающей предел растворимости [2].\nБыла отработана технология импульсного отжига для создания фоточувствительного слоя на\nоснове селена. Структура и состав полученных слоёв контролировались с помощью рамановских\nспектров и спектров поглощения. Концентрация свободных носителей определялась с помощью\nвольт-фарадных характеристик и эффекта Холла. Фотоэлектрические свойства слоя были\nисследованы при 77К на фотосопротивлениях и фотодиодах. Результаты подтверждают возможность\nсоздания фоточувствительных структур ИК-диапазона на основе кремния, легированного селеном\nсвыше предела растворимости.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"15 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-23","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

Abstract

В данной работе была исследована возможность создания фоточувствительных структур ИКдиапазона на основе кремния, легированного селеном свыше предела растворимости (hyper doped silicon). Полученные результаты могут быть использованы в солнечной энергетике, а также для создания фотоприёмных устройств ИК-диапазона. В настоящее время тепловизионные системы ИК-диапазона получили широкое распространение в медицине, автомобильной промышленности, строительстве и т.д. Основой для создания фотонных детекторов служат соединения A IIIB V и АIIB VI , в то время как для тепловых детекторов используют материалы с высоким температурным коэффициентом сопротивления. И то, и другое создаёт определённые технологические трудности при интеграции фоточувствительных элементов с электронной схемой управления и усиления, выполненной по традиционной кремниевой технологии. В то же время, использование кремния для детектирования ИК-излучения затруднительно, в силу его большой ширины запрещенной зоны. Расширить диапазон поглощения кремнием ИК-излучения возможно, например, за счёт примесного поглощения, для чего необходимо легирование кремния примесями, образующими глубокие уровни [1]. Одним из наиболее подходящих для данных задач элементом является селен за счет большого сечения фотоионизации и низкого сечения захвата. Однако селен имеет достаточно низкий предел растворимости в кремнии и высокий коэффициент диффузии. Первое снижает максимально достижимый квантовый выход, а второе ограничивает плотность фоточувствительных элементов. Решить обе этих проблемы можно, используя для формирования фоточувствительного слоя быстрый термический отжиг. При этом удаётся сформировать субмикронные легированные слои с концентрацией селена, превышающей предел растворимости [2]. Была отработана технология импульсного отжига для создания фоточувствительного слоя на основе селена. Структура и состав полученных слоёв контролировались с помощью рамановских спектров и спектров поглощения. Концентрация свободных носителей определялась с помощью вольт-фарадных характеристик и эффекта Холла. Фотоэлектрические свойства слоя были исследованы при 77К на фотосопротивлениях и фотодиодах. Результаты подтверждают возможность создания фоточувствительных структур ИК-диапазона на основе кремния, легированного селеном свыше предела растворимости.
脉冲退火光谱层
在这篇论文中,研究了基于硅的光敏x波段结构的可能性,硅结合了溶解度极限(hyper dopedsilicon)。结果可以用于太阳能和红外波段光电接收设备的制造。目前红外热成像系统获得广泛传播вмедицин、汽车业、建设等基础服务创建фотонныхдетектор化合物AIIIBVиАIIBVI则为热能探测器используютматериал高电阻温度系数。这两种技术都创造了一个有限的技术困难,结合了传统硅技术的光敏控制和强化电路。然而,由于它的宽度,使用硅来探测红外辐射是困难的。例如,通过计算吸收范围扩大红外辐射吸收范围,需要将硅结合到深层(1)。最适合这些任务的元素之一是硒,它使用了大量的光电电离截面和较低的俘获截面。然而这个村достаточнонизк极限溶于硅和扩散系数很高。第一个减少了最大的量子输出,第二个限制了光敏元件的密度。这两种问题都可以用光敏层快速热退火来解决。在这种情况下,你可以通过硒的合成来形成亚微米合金层,超过溶解度限制(2)。脉冲退火技术已经开发出来,以创建基于硒的光敏层。这些层的结构和组成是由ramanovkix光谱和吸收光谱控制的。自由载体的浓度是由辅助电压特征和霍尔效应决定的。在77k光电电阻和光电二极管中进行了研究。结果证实了红外波段光敏结构的可能性,这种结构是由硅合成的,硅被溶解度限制以上。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
求助全文
约1分钟内获得全文 求助全文
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信