ALD en microélectronique - Applications, équipements et productivité

Abstract

Cet article est une revue de l’utilisation du depot par couches atomiques dans le secteur de la microelectronique, en termes d’elaboration de couches minces et de realisation de composants. Les applications, la chimie des precurseurs, les mecanismes de croissance ainsi que les differents type de reacteurs (avec ou sans assistance plasma) sont decrits.