Modelling of Femtosecond Inscription in Fused Silica

2006 International Conference on Transparent Optical Networks Pub Date : 2006-11-20 DOI:10.1109/ICTON.2006.248522

V. Mezentsev, S. Turitsyn, M. Fedoruk, M. Dubov, A. Rubenchik, E. Podivilov

引用次数: 1

Abstract

We present theoretical and numerical analysis of the femtosecond processing of silica by laser beam with power below self-focusing threshold

查看原文本刊更多论文

熔融石英飞秒刻字的建模

本文对功率低于自聚焦阈值的激光飞秒加工二氧化硅进行了理论和数值分析

本文章由计算机程序翻译，如有差异，请以英文原文为准。

求助全文

约1分钟内获得全文求助全文

来源期刊

自引率

0.00%

发文量