Рентгеновские исследования образцов микрокристаллического кремния для панелей солнечных элементов

{"title":"Рентгеновские исследования образцов микрокристаллического кремния для панелей\nсолнечных элементов","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-68","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Методом малоуглового рассеяния рентгеновских лучей (МУРР) исследованы два набора образцов\nмикрокристаллического кремния (μc-Si), произведенного для дальнейшего использования в качестве\nрабочего материала панелей солнечных элементов. Технология производства предполагала, что в\nкаждом из наборов образцов зерна микрокристаллического кремния должны иметь размер 200 и\n20 нм вдоль нормали к поверхности соответственно.\nКривые МУРР от всех образцов были\nзарегистрированы на установке ДРОН-8 в НПО\n«Буревестник» (СПб, Россия) в режиме отражения\nна Cu Kα1 излучении. Один из образцов был\nдополнительно подвергнут полировке поверхности,\nпосле чего от него были повторно получены данные\nМУРР как в режиме отражения, так и в\nпросвечивающем режиме.\nРезультаты:\nПоказано, что в серии образцов, технология\nпроизводства которых нацелена на зерна высоты\n200 нм, реальные размеры зерен составляют от 205\nдо 240 нм. Продемонстрировано, как для одного из\nобразцов (по кривой МУРР, приведенной на Рис. 1)\nопределяется высота зерен 226±3 нм.\nПоказано, что в серии образцов, технология\nпроизводства которых нацелена на зерна высоты\n20 нм, реальные размеры зерен составляют от 20 до 24 нм. Продемонстрировано, как для одного из\nобразцов определяется высота зерен 22.9±0.1 нм.\nПоказано, что в отполированном образце кривые МУРР показывают присутствие низкоразмерных\nкомпонент, а поверхность образца покрыта локально упорядоченной сетью зерен Si размером около\n3 нм.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"144 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-68","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

Abstract

Методом малоуглового рассеяния рентгеновских лучей (МУРР) исследованы два набора образцов микрокристаллического кремния (μc-Si), произведенного для дальнейшего использования в качестве рабочего материала панелей солнечных элементов. Технология производства предполагала, что в каждом из наборов образцов зерна микрокристаллического кремния должны иметь размер 200 и 20 нм вдоль нормали к поверхности соответственно. Кривые МУРР от всех образцов были зарегистрированы на установке ДРОН-8 в НПО «Буревестник» (СПб, Россия) в режиме отражения на Cu Kα1 излучении. Один из образцов был дополнительно подвергнут полировке поверхности, после чего от него были повторно получены данные МУРР как в режиме отражения, так и в просвечивающем режиме. Результаты: Показано, что в серии образцов, технология производства которых нацелена на зерна высоты 200 нм, реальные размеры зерен составляют от 205 до 240 нм. Продемонстрировано, как для одного из образцов (по кривой МУРР, приведенной на Рис. 1) определяется высота зерен 226±3 нм. Показано, что в серии образцов, технология производства которых нацелена на зерна высоты 20 нм, реальные размеры зерен составляют от 20 до 24 нм. Продемонстрировано, как для одного из образцов определяется высота зерен 22.9±0.1 нм. Показано, что в отполированном образце кривые МУРР показывают присутствие низкоразмерных компонент, а поверхность образца покрыта локально упорядоченной сетью зерен Si размером около 3 нм.
x光检查显微晶体硅样品用于嵌板太阳能电池
通过低角度x射线散射(mrr),研究了两组微晶体硅(c-Si),用于进一步利用太阳能电池的工作材料。生产技术表明,在每一组微晶体硅中,必须分别在基线上的200个e20纳米。所有样本的摩尔曲线都被记录在“风暴眼”(俄罗斯)非政府组织(spb)的无人机8上。其中一个样品经过了额外的表面抛光,然后在反射模式和启蒙模式下重新获得了duneemur。结果:结果显示,在一系列旨在生产高200纳米谷物的技术样品中,种子的实际尺寸在205nm到240 nm之间。展示了一个样品(根据图上的摩尔曲线,1)如何决定种子的高度226 3纳米。在一系列以20纳米为目标的技术生产的样品中,种子的实际尺寸在20到24纳米之间。展示了一个样品如何决定种子的高度为22.9 0.1纳米。在抛光样品中,摩尔曲线显示了低尺寸成分的存在,样品表面覆盖着一个局部有序的Si颗粒网,大小约为3纳米。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
求助全文
约1分钟内获得全文 求助全文
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信