{"title":"Система плазменно-ассистированного ВЧ-нанесения покрытий из порошковых диэлектрических материалов","authors":"И.И. Ажажа, В.В. Шугуров","doi":"10.56761/efre2022.c1-o-025401","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"В данной работе приведены результаты разработки и исследования системы плазменно-ассистированного ВЧ-нанесения диэлектрических покрытий из порошковых материалов. Система состоит из мишени диаметром 200 мм с порошковым материалом из которого наносятся покрытия и генератора газовой плазмы «ПИНК». Система позволяет понизить давление нанесения покрытий, значительно повысить скорость нанесения покрытия и позволяет управлять свойствами наносимых покрытий за счёт плазменного ассистирования в процессе осаждения. Исследования проводились на установке электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности «КОМПЛЕКС», разработанной в лаборатории плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН.","PeriodicalId":156877,"journal":{"name":"8th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects","volume":"1 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2022-11-14","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"8th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.56761/efre2022.c1-o-025401","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Abstract
В данной работе приведены результаты разработки и исследования системы плазменно-ассистированного ВЧ-нанесения диэлектрических покрытий из порошковых материалов. Система состоит из мишени диаметром 200 мм с порошковым материалом из которого наносятся покрытия и генератора газовой плазмы «ПИНК». Система позволяет понизить давление нанесения покрытий, значительно повысить скорость нанесения покрытия и позволяет управлять свойствами наносимых покрытий за счёт плазменного ассистирования в процессе осаждения. Исследования проводились на установке электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности «КОМПЛЕКС», разработанной в лаборатории плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН.