Оптимизация параметров фотоприемников дальнего ИК диапазона на основе гетероструктур GaAs/AlGaAs с внутренней фотоэмиссией

{"title":"Оптимизация параметров фотоприемников дальнего ИК диапазона на основе\nгетероструктур GaAs/AlGaAs с внутренней фотоэмиссией","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-160","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"В работе представлены результаты разработки, исследования и оптимизации параметров\nфотоприемников дальнего ИК диапазона на основе структур с внутренней фотоэмиссией\nпредставленных на рисунке 1.\nЛегированные бериллием слои GaAs служат\nэмиттерами носителей заряда. Фотовозбужденные\nв эмиттере носители переносятся через барьер на\nгранице с нелегированными барьерными слоями\nAlGaAs.\nПреимущество данного типа приемников в\nсравнении с приемниками на основе структур с\nквантовыми ямами аналогичной архитектуры\nсостоит в:\n- возможности регистрации ИК излучения в\nшироком диапазоне, граница спектральной чувствительности может варьироваться от 5 до 200 мкм,\nпутем варьирования состава алюминия в барьерных слоях AlGaAs.\n- высокой квантовая эффективности;\n- регистрации излучения при прямой засветке без необходимости изготовления дифракционных\nэлементов ввода излучения;\n- возможность оптимизации фотоэлектрических параметров с использованием с\nинтерференционных эффектов внутри структуры; [1].\nВ данной работе рассматриваются структуры с pтипом проводимости в эмитирующих слоях GaAs\nлегированная бериллием. Барьерные слои AlGaAs не\nлегированы.\nОдним из путей повышения эффективности данного\nтипа фотоприемников состоит в создании\nдополнительных условий для максимального\nпоглощения принимаемого излучения.\nПри этом возможны несколько вариантов: введение\nдополнительных буферных слоев необходимой\nконфигурации, использование легированной подложки и\nдругое.\nВ работе рассматривается первый вариант. Расчетным\nпутем показано, что введение в подложку, перед\nвыращиванием фоточувствительных слоев, буферных зон (spacer) определенной конфигурации\nприводит к увеличению чувствительности фотоприемников. Результаты расчета приведены на\nследующем рисунке [2].\nНа рисунке показано влияние буферных слоев различного типа проводимости, n и p типа с разной\nконцентрацией уровня легирования, на поглощение излучения в фоточувствительной структуре.\nПолученные результаты показывают возможность увеличения эффективности работы\nфотоприемников различной модификации и с разной спектральной чувствительностью путем\nиспользованием дополнительных буферных слоев.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"12 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-160","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

Abstract

В работе представлены результаты разработки, исследования и оптимизации параметров фотоприемников дальнего ИК диапазона на основе структур с внутренней фотоэмиссией представленных на рисунке 1. Легированные бериллием слои GaAs служат эмиттерами носителей заряда. Фотовозбужденные в эмиттере носители переносятся через барьер на границе с нелегированными барьерными слоями AlGaAs. Преимущество данного типа приемников в сравнении с приемниками на основе структур с квантовыми ямами аналогичной архитектуры состоит в: - возможности регистрации ИК излучения в широком диапазоне, граница спектральной чувствительности может варьироваться от 5 до 200 мкм, путем варьирования состава алюминия в барьерных слоях AlGaAs. - высокой квантовая эффективности; - регистрации излучения при прямой засветке без необходимости изготовления дифракционных элементов ввода излучения; - возможность оптимизации фотоэлектрических параметров с использованием с интерференционных эффектов внутри структуры; [1]. В данной работе рассматриваются структуры с pтипом проводимости в эмитирующих слоях GaAs легированная бериллием. Барьерные слои AlGaAs не легированы. Одним из путей повышения эффективности данного типа фотоприемников состоит в создании дополнительных условий для максимального поглощения принимаемого излучения. При этом возможны несколько вариантов: введение дополнительных буферных слоев необходимой конфигурации, использование легированной подложки и другое. В работе рассматривается первый вариант. Расчетным путем показано, что введение в подложку, перед выращиванием фоточувствительных слоев, буферных зон (spacer) определенной конфигурации приводит к увеличению чувствительности фотоприемников. Результаты расчета приведены на следующем рисунке [2]. На рисунке показано влияние буферных слоев различного типа проводимости, n и p типа с разной концентрацией уровня легирования, на поглощение излучения в фоточувствительной структуре. Полученные результаты показывают возможность увеличения эффективности работы фотоприемников различной модификации и с разной спектральной чувствительностью путем использованием дополнительных буферных слоев.
根据GaAs/AlGaAs基质结构优化深红外光电接收器参数
工作描述了深红外波段参数的开发、研究和优化,基于图1中表示的内部光电发射结构。由铍层加斯合金制成,由电荷发射器提供动力。光源发射器通过与非法屏障分层层的屏障携带。这种类型的接收器与类似建筑的skwan坑结构类似的接收器的优点是:红外辐射登记的可能性很低,光谱敏感度范围可能在5到200公里之间,通过在AlGaAs壁垒层中铝的成分的变化。-高量子效率;-直接照射辐射记录,无需制造衍射辐射输入元素;-利用结构内部的综合效应优化光电参数的能力;[1]。这项工作考虑的是发源地铍中导电性类型类型的结构。AlGaAs屏障层是非法的。提高邓纳姆型光电接收器效率的一种方法是创造额外的条件,以最大限度地吸收接收到的辐射。有几种选择:引入额外的缓冲层来实现我需要的配置,使用合法的支架等等。工作正在考虑第一种选择。通过计算,引入光敏层(spacer)缓冲区(spacer)是增加光敏接收器敏感度的一种方式。计算结果如下图所示。图显示了不同类型导电性的缓冲层,n和p型具有不同浓度的合金化层,吸收光敏结构中的辐射。结果显示,不同的修改和不同的光谱敏感度可以提高光电接收器的效率,从而通过传递额外的缓冲层。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
求助全文
约1分钟内获得全文 求助全文
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信