Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

Abstract

Cet article detaille le principe de la methode de depot chimique par flux alternes appelee Atomic Layer Deposition (ALD). A l’issue d’un inventaire des differents materiaux pouvant etre deposes par cette technique, il est suivi d’un bref resume de ses applications principales et emergentes.