Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

Abstract

L’ALD Spatial (SALD) est une variation de l’ALD ou les precurseurs sont injectes en des endroits differents, et separes par une region inerte. La croissance du film est realisee par exposition du substrat a des emplacements contenant des precurseurs differents. Dans cet article, les principes fondamentaux de la SALD et son developpement historique sont presentes. Ensuite, une description succincte des differents reacteurs developpes a ce jour est fournie, suivie par la description des aspects de dynamique des fluides et les defis techniques particuliers associes a la SALD. Enfin, certaines des applications de la SALD sont decrites.