Строение комплекса SiCl 4 ←O=C[N(CH 3 ) 2 ] 2 и перераспределение электронной плотности при его образовании по результатам расчетов ab initio

В. П. Фешин, Е. В. Фешина
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4建筑综合体SiCl←O = C [N (CH) 2] 2和再分配其教育结果估计ab initio电子密度
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