Влияние морфологии супраструктуры поликристаллических пленок халькогенидов свинца на спектральную плотность мощности шума

Б.Н. Мирошников, М. Ю. Пресняков, В. П. Астахов
{"title":"Влияние морфологии супраструктуры поликристаллических пленок халькогенидов\nсвинца на спектральную плотность мощности шума","authors":"Б.Н. Мирошников, М. Ю. Пресняков, В. П. Астахов","doi":"10.34077/rcsp2019-111","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Связь морфологии со спектральной плотностью мощности шума фоторезисторов на основе PbS\nдетально обсуждалась в [1, 2].\nНаши исследования в этой области были продолжены на фоторезистивных структурах на основе\nPbSe и PbCdS. Данные образцы были изготовлены с целью получения фоточувствительных слоев с\nвысокой чувствительностью в диапазоне длин волн 1,5-5 мкм.\nВ докладе приведены результаты измерений как значения шума на частотах 400, 800 и 1200 Гц,\nтак и спектральной плотности мощности шума в диапазоне 1 – 10 000 Гц. Показано, что наличие\nшума типа 1/F во всем диапазоне частот напрямую связано со степенью упорядочения\nполупроводникового материала. Так для субструктур, представленных на рисунке 1 (с приведенными\nдля них картинами дифракции электронов) легко видеть различия между «шумящей» структурой\n(верхний рисунок) и малошумящей (с преобладанием генерационно-рекомбинационного шума).","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"50 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-111","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

Abstract

Связь морфологии со спектральной плотностью мощности шума фоторезисторов на основе PbS детально обсуждалась в [1, 2]. Наши исследования в этой области были продолжены на фоторезистивных структурах на основе PbSe и PbCdS. Данные образцы были изготовлены с целью получения фоточувствительных слоев с высокой чувствительностью в диапазоне длин волн 1,5-5 мкм. В докладе приведены результаты измерений как значения шума на частотах 400, 800 и 1200 Гц, так и спектральной плотности мощности шума в диапазоне 1 – 10 000 Гц. Показано, что наличие шума типа 1/F во всем диапазоне частот напрямую связано со степенью упорядочения полупроводникового материала. Так для субструктур, представленных на рисунке 1 (с приведенными для них картинами дифракции электронов) легко видеть различия между «шумящей» структурой (верхний рисунок) и малошумящей (с преобладанием генерационно-рекомбинационного шума).
halkogenidovna超晶体薄膜结构对噪声功率谱密度的影响
形态学与光电电阻频谱密度的关系在(1、2)中被详细讨论。我们在这一领域的研究继续基于基于光电电阻结构和PbCdS。这些样品的设计目的是在1.5 -5 m的波长范围内产生高灵敏度的光敏层。报告显示了400、800和1200赫兹噪声值以及1 - 10000赫兹噪声功率谱密度的测量结果。在所有频率范围内,1/F噪声的存在与半导体材料的有序程度直接相关。因此,对于图1中表示的子结构(如电子衍射图),很容易看出“噪声”结构(上图)和低噪声(主要是再生噪声)之间的区别。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
求助全文
约1分钟内获得全文 求助全文
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信