Buried Ceramic Layer Formation In Glass And Silicon Using Plasma Source Ion Implantation

Proceedings of 1994 IEEE 21st International Conference on Plasma Sciences (ICOPS) Pub Date : 1994-06-06 DOI:10.1109/PLASMA.1994.588985

J. Booske, L. Zhan, R. Cooper, J. Shohet, K. Shenai, D. Dallman, M.J. Goeckner, R. Breun, W. Hitchon, E. Wickesberg, R. Speth, J. Jacobs, G. Was

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等离子体源离子注入在玻璃和硅中形成埋藏陶瓷层

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