D. Cruz, Bruno Alves de Souza, Lucas de Almeida Campos, L. S. Almeida, Jéferson Aparecido Moreto, Marcos Dorigão Manfrinato, N. C. D. Cruz, L. Rossino
{"title":"Projeto, construção e comissionamento de um reator para tratamento de nitretação iônica a plasma em aço P20","authors":"D. Cruz, Bruno Alves de Souza, Lucas de Almeida Campos, L. S. Almeida, Jéferson Aparecido Moreto, Marcos Dorigão Manfrinato, N. C. D. Cruz, L. Rossino","doi":"10.17563/RBAV.V37I3.1107","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"O objetivo deste trabalho foi desenvolver um dispositivo para tratamento a plasma e verificar sua eficiencia no aco P20. A influencia dos principais parâmetros de tratamento na camada formada foi verificada por meio de testes de comissionamento. Os tratamentos de nitretacao ionica a plasma foram realizados na superficie do aco P20 com 80% de N2 e 20% de H2, utilizando fonte de tensao DC corrente continua e fonte de tensao DC corrente pulsada. Observou-se a formacao de camada heterogenea com efeito de borda ao se realizar o tratamento com fonte de tensao DC corrente continua; o efeito oposto foi observado para o tratamento utilizando fonte de tensao DC corrente pulsada. Os resultados mostram que a tensao influencia diretamente na temperatura de tratamento, enquanto a pressao determina a formacao da bainha catodica, atuando na uniformidade da luminescencia catodica e na uniformidade da camada produzida. Foi possivel observar a relacao da temperatura com a dureza, enquanto o tempo foi significativo na espessura da camada formada. Conclui-se que o equipamento construido mostrou eficacia para os fins a que foi designado, e seu melhor desempenho deu-se com o uso da fonte de tensao DC corrente pulsada.","PeriodicalId":237166,"journal":{"name":"Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo","volume":"4 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-01-31","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"4","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.17563/RBAV.V37I3.1107","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
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Abstract
O objetivo deste trabalho foi desenvolver um dispositivo para tratamento a plasma e verificar sua eficiencia no aco P20. A influencia dos principais parâmetros de tratamento na camada formada foi verificada por meio de testes de comissionamento. Os tratamentos de nitretacao ionica a plasma foram realizados na superficie do aco P20 com 80% de N2 e 20% de H2, utilizando fonte de tensao DC corrente continua e fonte de tensao DC corrente pulsada. Observou-se a formacao de camada heterogenea com efeito de borda ao se realizar o tratamento com fonte de tensao DC corrente continua; o efeito oposto foi observado para o tratamento utilizando fonte de tensao DC corrente pulsada. Os resultados mostram que a tensao influencia diretamente na temperatura de tratamento, enquanto a pressao determina a formacao da bainha catodica, atuando na uniformidade da luminescencia catodica e na uniformidade da camada produzida. Foi possivel observar a relacao da temperatura com a dureza, enquanto o tempo foi significativo na espessura da camada formada. Conclui-se que o equipamento construido mostrou eficacia para os fins a que foi designado, e seu melhor desempenho deu-se com o uso da fonte de tensao DC corrente pulsada.