ALD pour les piles à combustible à haute température

Abstract

La nanostructuration par couches minces de differentes zones interfaciales des piles a combustible a haute temperature, notamment celles a oxyde solide (SOFC), est primordiale pour ameliorer les performances et la duree de vie de ces dispositifs de generation d’energie. Le depot par couches atomiques (ALD) est une technique de choix pour la mise en œuvre de films minces de tres grande qualite, homogenes, denses et conformes. Cet article montre les avancees et le potentiel de l’ALD essentiellement pour les systemes SOFC, mais aussi pour les piles a combustibles a carbonates fondus (MCFC) et a oxyde solide conducteur de protons (PCFC).