Pattern Recognition Letters

SCI期刊
Pattern Recognition Letters
中文名称:
模式识别字母
期刊缩写:
Pattern Recognit. Lett.
影响因子:
3.9
ISSN:
print: 0167-8655
研究领域:
工程技术-计算机:人工智能
创刊年份:
1982年
h-index:
139
自引率:
5.90%
Gold OA文章占比:
13.00%
原创研究文献占比:
99.64%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
Pattern Recognition Letters aims at rapid publication of concise articles of a broad interest in pattern recognition. Subject areas include all the current fields of interest represented by the Technical Committees of the International Association of Pattern Recognition, and other developing themes involving learning and recognition.
期刊介绍中文:
Pattern Recognition Letters 旨在快速发表对模式识别具有广泛兴趣的简明文章。 主题领域包括国际模式识别协会技术委员会代表的所有当前感兴趣的领域,以及涉及学习和识别的其他发展主题。
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
12.41.4001.713
学科
排名
百分位
大类:Computer Science
小类:Signal Processing
11 / 131
91%
大类:Computer Science
小类:Software
34 / 407
91%
大类:Computer Science
小类:Computer Vision and Pattern Recognition
11 / 106
90%
大类:Computer Science
小类:Artificial Intelligence
44 / 350
87%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
3区 计算机科学
3区 计算机:人工智能 COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE
WOS期刊分区
学科分类
Q2COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE
历年影响因子
2015年1.5860
2016年1.9950
2017年1.9520
2018年2.8100
2019年3.2550
2020年3.7560
2021年4.7570
2022年5.1000
2023年3.9000
历年发表
2012年298
2013年284
2014年347
2015年290
2016年321
2017年275
2018年298
2019年393
2020年531
2021年375
2022年287
投稿信息
出版周期:
Monthly
出版语言:
English
出版国家(地区):
NETHERLANDS
接受率:
100%
审稿时长:
9.1 months
出版商:
Elsevier
编辑部地址:
ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE

Pattern Recognition Letters - 最新文献

A novel HMM distance measure with state alignment

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LuminanceGAN: Controlling the brightness of generated images for various night conditions

Pub Date : 2024-10-01 DOI: 10.1016/j.patrec.2024.10.014 Junghyun Seo , Sungjun Wang , Hyeonjae Jeon , Taesoo Kim , Yongsik Jin , Soon Kwon , Jeseok Kim , Yongseob Lim

Denoising diffusion model with adversarial learning for unsupervised anomaly detection on brain MRI images

Pub Date : 2024-10-01 DOI: 10.1016/j.patrec.2024.10.007 Jongmin Yu , Hyeontaek Oh , Younkwan Lee , Jinhong Yang
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