Plasma Devices and Operations

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期刊缩写：

Plasma Devices Oper.

ISSN：

print: 1051-9998

研究领域：

物理-核科学技术

创刊年份：

1990年

Gold OA文章占比：

0.00%

原创研究文献占比：

0.00%

期刊官网：

http://www.tandfonline.com/toc/gpdo20/current

发文信息

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投稿信息

出版周期：

Quarterly

出版国家(地区)：

ENGLAND

编辑部地址：

TAYLOR & FRANCIS LTD, 4 PARK SQUARE, MILTON PARK, ABINGDON, ENGLAND, OXON, OX14 4RN

PubMed链接：

http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1051-9998%5BISSN%5D

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