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Plasma-EnhancednAtomic Layer-Deposited Ti,Si-DopednZrO<sub>2</sub> Antiferroelectric Films for Energy Storage Capacitors
Pub Date : 1753-01-01 DOI: 10.1021/acsaelm.3c00892.s001 Guang Zheng (3580007), Yu-Li He (17120749), Bao Zhu (5161595), Xiaohan Wu (1515541), David Wei Zhang (1683634), Shi-Jin Ding (3765619)
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