查看最新文献
订阅
分享
614发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
Plasma Sources Science and Technology - 最新文献
Generation of high-density plasma via transparent electrode in capacitively coupled plasma
Pub Date : 2024-07-25 DOI: 10.1088/1361-6595/ad678f Ho-Jun Moon, Jiwon Jung, Junyoung Park, Chin-Wook ChungIn situ measurement of electron emission yield at Si and SiO2 surfaces exposed to Ar/CF4 plasmas
Pub Date : 2024-07-23 DOI: 10.1088/1361-6595/ad6690 M. SobolewskiVariations of plasma potential in RF discharges with DC-grounded electrode
Pub Date : 2024-07-23 DOI: 10.1088/1361-6595/ad6691 P. Hiret, Patrik Tognina, E. Faudot, Roland Steiner, Artem M Dmitriev, L. Marot, Ernst Meyer
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
