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Journal of Vacuum Science & Technology B - 最新文献
Roughness-generation mechanism of Ru etching using Cl2/O2-based plasma for advanced interconnect
Pub Date : 2024-07-01 DOI: 10.1116/6.0003736 M. Matsui, Yohei Ishii, Lucas Kovatch, Kathryn Maier, Masaya Imai, Makoto Miura, K. KuwaharaDesorption model of volatile Ru species induced by partial chlorination on Ru(0001) under an O2/Cl2-based plasma process
Pub Date : 2024-07-01 DOI: 10.1116/6.0003706 Masaya Imai, M. Matsui, Ryoko Sugano, Yohei Ishii, Makoto Miura, K. KuwaharaInfrared radiation absorption in a wide wavelength range of 3–14 μm mainly based on spatial magnetic plasmon excitation and accumulation in an arrayed nanocavity-shaped metasurface
Pub Date : 2024-07-01 DOI: 10.1116/6.0003674 Zecheng Gao, Wuyang Ji, Taige Liu, Xinyu Zhang
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