Journal of Applied Crystallography

SCI期刊
Journal of Applied Crystallography
中文名称:
应用晶体学杂志
期刊缩写:
J. Appl. Crystallogr.
影响因子:
5.2
ISSN:
print: 1600-5767
on-line: 1600-5767
研究领域:
CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY
h-index:
140
自引率:
3.30%
Gold OA文章占比:
52.69%
原创研究文献占比:
100.00%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
Many research topics in condensed matter research, materials science and the life sciences make use of crystallographic methods to study crystalline and non-crystalline matter with neutrons, X-rays and electrons. Articles published in the Journal of Applied Crystallography focus on these methods and their use in identifying structural and diffusion-controlled phase transformations, structure-property relationships, structural changes of defects, interfaces and surfaces, etc. Developments of instrumentation and crystallographic apparatus, theory and interpretation, numerical analysis and other related subjects are also covered. The journal is the primary place where crystallographic computer program information is published.
期刊介绍中文:
凝聚态研究、材料科学和生命科学中的许多研究课题都利用晶体学方法来研究中子、X 射线和电子的晶体和非晶体物质。在Journal of Applied Crystallography上发表的文章重点介绍这些方法及其在识别结构和扩散控制相变、结构-性能关系、缺陷、界面和表面的结构变化等方面的应用。仪器和晶体学仪器、理论和解释的发展、数值分析和其他相关主题也包括在内。该期刊是出版晶体学计算机程序信息的主要场所。
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
7.801.3262.370
学科
分区
排名
百分位
大类:Biochemistry, Genetics and Molecular Biology
小类:General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology
Q1
43 / 212
80%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
3区 材料科学
2区 晶体学 CRYSTALLOGRAPHY
3区 化学:综合 CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY
WOS期刊分区
学科分类
Q2CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY
Q1CRYSTALLOGRAPHY
历年影响因子
2017年2.5700
2018年2.4950
2019年3.4220
2020年3.1610
2021年3.3040
2022年6.1000
2023年5.2000
历年发表
2012年182
2013年267
2014年251
2015年252
2016年274
2017年213
2018年204
2019年173
2020年192
2021年226
2022年178
投稿信息
出版语言:
English
出版国家(地区):
ENGLAND
出版商:
International Union of Crystallography
编辑部地址:
2 ABBEY SQ, CHESTER, ENGLAND, CH1 2HU

Journal of Applied Crystallography - 最新文献

Pub Date : 2024-07-31

AutoRefl: active learning in neutron reflectometry for fast data acquisition

Pub Date : 2024-07-31 DOI: 10.1107/S1600576724006447 David P. Hoogerheide, Frank Heinrich

Pub Date : 2024-07-29
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