查看最新文献
订阅
分享
1578发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
IEEE International Integrated Reliability Workshop Final Report, 2004 - 最新文献
Recovery of NBTI degradation in HfSiON/metal gate transistors
Pub Date : 2004-10-18 DOI: 10.1109/IRWS.2004.1422756 H. Harris, R. Choi, B. Lee, C. Young, J. Sim, K. Mathews, P. Zeitzoff, P. Majhi, G. BersukerBayesian approach to reliability projection for high k dielectric thin films
Pub Date : 2004-10-18 DOI: 10.1109/IRWS.2004.1422771 W. Luo, W. Kuo, Y. KuoCircuit and silicide impact on the correlation between TLP and ESD (HBM and MM)
Pub Date : 2004-10-18 DOI: 10.1109/IRWS.2004.1422766 S. Huang, J.H. Lee, S.C. Lee, K. Chen, M.H. Song, C. Chiang, Mi-Chang Chang
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
