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IEEE/CPMT/SEMI. 28th International Electronics Manufacturing Technology Symposium (Cat. No.03CH37479) - 最新文献
Finite transverse coherent length of electron source evaluated by interference fringes with a natural bi-prism
Pub Date : 2003-07-07 DOI: 10.1109/IVMC.2003.1223006 A. Yajima, W. Kobayashi, T. Ichimura, B. Cho, C. OshimaOptimisation of silicon fed fabrication for space application
Pub Date : 2003-07-07 DOI: 10.1109/IVMC.2003.1222994 L. Wang, R. Stevens, S. Huq, I. Loader, B. Kent, K. Aplin, J. SheCarbon nanotube growth from Cu-Co alloys for field emission applications
Pub Date : 2003-07-07 DOI: 10.1116/1.1752900 W. Hofmeister, W. Kang, Y. Wong, J. Davidson
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