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Characterization and Metrology for ULSI Technology - 最新文献
Nondestructive Thickness Determination of High‐k Dielectric HfO2 and Interfacial Oxide by Spectroscopic Ellipsometry
Pub Date : 2005-09-13 DOI: 10.1063/1.2062959 G. Song, Xiaolong Yang, M. Tao, Jianyu HuangIssues in Line Edge and Linewidth Roughness Metrology
Pub Date : 2005-09-13 DOI: 10.1063/1.2062992 J. VillarrubiaThermal Stability Studies of Advanced Gate Stack Structures on Si (100)
Pub Date : 2005-09-13 DOI: 10.1063/1.2062955 P. Sivasubramani, P. Zhao, M. J. Kim, B. Gnade, R. Wallace, L. Edge, D. Schlom, G. Parsons, V. Misra
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