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2018 International Integrated Reliability Workshop (IIRW) - 最新文献
Gate oxide degradation assessment by electrical stress and capacitance measurements
Pub Date : 2018-10-01 DOI: 10.1109/IIRW.2018.8727082 Dann Morillon, P. Masson, F. Julien, P. Lorenzini, Jérôme Goy, C. Pribat, O. Gourhant, T. Kempf, J. Ogier, A. Villaret, G. Ghezzi, N. Cherault, S. NielIdentifying Defects Responsible For Leakage Currents in Thin Dielectric Films
Pub Date : 2018-10-01 DOI: 10.1109/IIRW.2018.8727077 R. J. Waskiewicz, E. Frantz, P. Lenahan, S. King, N. Harmon, M. Flatté
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