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2019 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA) - 最新文献
Thermal Atomic Layer Etching of Amorphous and Crystalline Hafnium Oxide, Zirconium Oxide, and Hafnium Zirconium Oxide
Pub Date : 2019-04-22 DOI: 10.1109/VLSI-TSA.2019.8804645 J. Murdzek, S. GeorgeDesigning and Modeling Analog Neural Network Training Accelerators
Pub Date : 2019-04-22 DOI: 10.1109/VLSI-TSA.2019.8804680 S. Agarwal, R. Jacobs-Gedrim, C. Bennett, Alexander H. Hsia, M. V. Van Heukelom, D. Hughart, E. Fuller, Yiyang Li, A. Talin, M. MarinellaIntegrated Photonics of Transistor Laser, Detector and Active Load for All Optical NOR Gate
Pub Date : 2019-04-22 DOI: 10.1109/VLSI-TSA.2019.8804656 Ardy Winoto, Junyi Qiu, Dufei Wu, Yuefeng Peng, M. Feng
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