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2010 IEEE/ACM International Conference on Computer-Aided Design (ICCAD) - 最新文献
SMATO: Simultaneous mask and target optimization for improving lithographic process window
Pub Date : 2010-11-07 DOI: 10.1109/ICCAD.2010.5654341 Shayak Banerjee, K. Agarwal, M. OrshanskyRecent research development in PCB layout
Pub Date : 2010-11-07 DOI: 10.1109/ICCAD.2010.5654190 Tan Yan, Martin D. F. WongEngineering a scalable Boolean matching based on EDA SaaS 2.0
Pub Date : 2010-11-07 DOI: 10.1109/ICCAD.2010.5654275 Chun Zhang, Yu Hu, Lingli Wang, Lei He, J. Tong
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