查看最新文献
订阅
分享
371发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
The Fourth International Workshop on Junction Technology, 2004. IWJT '04. - 最新文献
USJ formation & characterization for 65nm node and beyond
Pub Date : 2004-03-16 DOI: 10.1109/IWJT.2004.1306746 J. BorlandLow temperature activated Ga and Sb ion-implanted shallow junctions
Pub Date : 2004-03-16 DOI: 10.1109/IWJT.2004.1306770 S. Tavakoli, Kyoung-Eon Lee, S. Baek, H. HwangAtomic simulation of ion implantation into HfO/sub 2/: LEACS vs. TSUPREM4
Pub Date : 2004-03-15 DOI: 10.1109/IWJT.2004.1306873 Hao Shi, Xiaokang Shi, Min Yu, Ru Huang, Xing Zhang, Yangyuan Wang, K. Suzuki, H. Oka
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
