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Proceedings of the 1997 Bipolar/BiCMOS Circuits and Technology Meeting - 最新文献
Bipolar process integration for a 0.25 /spl mu/m BiCMOS SRAM technology using shallow trench isolation
Pub Date : 1997-09-28 DOI: 10.1109/BIPOL.1997.647360 H. Tian, A. Perera, Chitra K. Subramanian, D. Pham, J. Damiano, J. Scott, T. McNelly, R. Zaman, J. HaydenA single chip transceiver for infrared communications
Pub Date : 1997-09-28 DOI: 10.1109/BIPOL.1997.647429 D. Rogers, S. Gowda, M. Ritter, R. AnanthHigh performance BiCMOS process integration: trends, issues, and future directions
Pub Date : 1997-09-28 DOI: 10.1109/BIPOL.1997.647351 D. Harame
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