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Proposed for presentation at the AVS 67 Virtual Symposium held October 25-28, 2021 in , - 最新文献
Development of low thermal budget Si epitaxy and high-k/ metal gate stack for atomically precise electronic devices.
Pub Date : 2021-10-01 DOI: 10.2172/1894018 E. Anderson, Deanna Campbell, J. Ivie, S. Schmucker, Ping Lu, Xujiao Gao, L. Tracy, R. Arghavani, E. Bussmann, A. Baczewski, T. Lu, A. Katzenmeyer, D. Scrymgeour, S. Misra
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