2001 6th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage (IEEE Cat. No.01TH8538)

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2001 6th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage (IEEE Cat. No.01TH8538) - 最新文献

Fundamental limitations in the design of front end and back end plasma etch processes

Pub Date : 2001-05-13 DOI: 10.1109/PPID.2001.929965 O. Joubert, L. Vallier, J. Foucher, D. Fuard, G. Cunge, M. Assous

Plasma charging and mobile ions on the data retention of 0.25 /spl mu/m flash memory

Pub Date : 2001-05-13 DOI: 10.1109/PPID.2001.929982 J. Liou, Pao-Chuan Lin, Wei-Min Chen, J. Lin, Chih-Jen Huang, Hwi-Huang Chen, G. Hong

Relation between plasma process-induced oxide failure fraction and antenna ratio

Pub Date : 2001-05-13 DOI: 10.1109/PPID.2001.929968 Zhichun Wang, A. Scarpa, C. Salm, F. Kuper
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