European Mask and Lithography Conference

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European Mask and Lithography Conference - 最新文献

3D mask defect and repair simulation based on SEM images

Pub Date : 2022-11-01 DOI: 10.1117/12.2637978 Vlad Medvedev, P. Evanschitzky, A. Erdmann

OPC flow for non-conventional layouts: specific application to optical diffusers

Pub Date : 2022-11-01 DOI: 10.1117/12.2639563 E. Sungauer, S. Audran, Simon Guillaumet, D. Ristoiu

Spatial frequency breakdown of CD variation

Pub Date : 2022-11-01 DOI: 10.1117/12.2640808 T. Kovalevich, Barbara Witek, Daniel J. Riggs, J. Bekaert, L. van Look, M. Maslow
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